iTops PVD ITO 溅射系统
1、极高的加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力
High operating temperture, accurate temperature control, excellent vacuum capability
2、高晶体质量的氮化铝薄膜及优异的薄膜厚度均匀性
High crystalline AlN film with excellent thickness uniformity
3、占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便
Better footprint, simple structure, flexible operation and easy maintain
4、设备稳定，稼动率高，运营成本低
Reliable performance, higher uptime and lower CoO/CoC
技术参数
1、晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容
2、适用材料 氮化铝
3、适用工艺 氮化铝缓冲层溅射
4、适用领域 化合物半导体
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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