Load-lock式Plasma CVD设备
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爱发科

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CC-200/400

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亚洲

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

Load-lock式Plasma CVD设备 CC-200/400

Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
  • 产品特性 / Product characteristics

  • 27.12MHz高密度等离子制程
    SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可对应SiO2膜
    以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
    可对应有机EL(OLED)的低温成膜用heater
    使用Tray可搬送多种基板尺寸
    通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程(Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)
  • 产品应用 / Product application

  • 功率器件
    LED、LD、高速device等化合物相关
    有机EL(OLED)开发
    太阳电池开发
    MEMS
  • 产品参数 / Product parameters


公司介绍
深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年,由武汉大学团队孵化,致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。
公司主要业务如下:
装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。
设备服务:驻场或者 oncall,装备维护、保养、售后技术支持。
厂务服务:驻场或者 oncall,人力服务及厂务二次配工程。
经历五年高速发展,2023 年营业额达 3.2 亿,连年复合增长率达 300%,现处于稳定扩张期。
成长历程
•2020年(公司成立年)
•2300万订单额
2021年 7000万订单额
2022年 2.5亿订单额
2023年3.2亿订单额




售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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爱发科镀膜机CC-200/400的工作原理介绍

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Load-lock式Plasma CVD设备信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供,如您想了解更多关于Load-lock式Plasma CVD设备报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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