看了去胶机的用户又看了
去胶设备NA-1300系列
产品特性 / Product characteristics
• 次世代晶圆工艺必须的 1 x 1016atoms/cm2以上离子注入剥离工艺、PI去除工艺中，可实现低颗粒工艺。
• 添加F系气体工艺适合的腔体构成，可对应低颗粒需求。因此，从普通PR到离子注入剥离、有机膜剥离（PI，DFR等）、氧化膜刻蚀等
非常广泛的工艺均可对应。
• 采用简单的设备构成可同时实现“维修性·信赖性”。
• 有弹性的腔体构成选择（μ波、RIE、μ波＋RIE），可实现丰富的搬送路经。
• 仅设定工艺菜单即可切换晶圆尺寸，晶圆尺寸容易实现。
产品应用 / Product application
•道后端工艺的离子注入剥离工艺(1 x 1016atoms/cm2以上)的PI除去
•添加CF4工艺必要的晶圆工艺(电子部件・LED)
•芯片封装的BUMP工艺
•CCD颜色过滤膜的制造工艺
产品参数 / Product parameters
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
爱发科去胶机NA-1300系列的工作原理介绍
去胶机NA-1300系列的使用方法?
爱发科NA-1300系列多少钱一台?
去胶机NA-1300系列可以检测什么？
去胶机NA-1300系列使用的注意事项？
爱发科NA-1300系列的说明书有吗？
爱发科去胶机NA-1300系列的操作规程有吗？
爱发科去胶机NA-1300系列报价含票含运吗？
爱发科NA-1300系列有现货吗？
