看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
产品特性 / Product characteristics
• 在洁净房内作业可扩张为双腔。(可选配腔室:NLD、有磁场ICP、CCP或者去胶室)
产品应用 / Product application
产品参数 / Product parameters
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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