RIE等离子刻蚀设备
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SAMCO

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RIE-200C

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亚洲

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

装入卡带 RIE等离子蚀刻设备 RIE-200C高吞吐量

概要

RIE-200C是在拥有丰富交货业绩的CCP RIE系统 "RIE-10NR "的基础上开发的量产型盒式装载系统。该系统可对Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜进行高精度蚀刻和灰化。采用双盒双臂机械手,PLC控制全自动操作,高性能存储工艺参数,实现了高产量。

主要特点和优点

  • 大气高速传输系统

  •  该系统配备了一个大气盒室和一个大气传输机器人,而不是通常的装载锁定室。它可以处理最大ø8 "晶圆的自动加工,并且可以安装在两个盒式箱中。

  • 全自动操作

  •  通过触摸屏可实现全自动操作,通过PLC控制可实现过程管理和数据记录

应用

    • Si、Poly-Si、SiO₂、SiN等各种硅薄膜的高精度蚀刻。

    • 光阻剂的灰化、剥离、除尘

    • 清除有机污染物

售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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