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液体原料CVD设备 PD-100ST
沉积物达ø100 mm（4"）
PD-100ST是一种用于研发的低温(80 ~ 400°C)、高速(>300 nm/min)等离子体增强CVD系统。Samco独特的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源，以低应力沉积SiO2薄膜，从薄膜到极厚的薄膜（高达100 µm）。PD-100ST具有时尚、紧凑的设计，只需要最小的洁净室空间。
沉积物达ø100 mm（4"）。
阴极耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速（>300 nm/min）沉积。
通过低温沉积，可以在塑料表面上沉积薄膜。
高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率
使用锗、磷、硼液源控制折射率。
PD-100ST设计时尚、紧凑，只需要最小的洁净室空间。
塑料材料上保护膜的沉积
在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。
光波导的制造（光纤芯/包层）。
制造用于微型机械生产的面罩。
覆盖高纵横比结构，如MEMS器件。
SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
SAMCO化学气相沉积（CVD）PD-100ST的工作原理介绍
化学气相沉积（CVD）PD-100ST的使用方法?
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SAMCOPD-100ST的说明书有吗？
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