iTops PVD AlN 溅射系统
1、采用托盘形式，可兼容 2/4/6 英寸
wafer With tray，2 inch / 4 inch /6 inch wafer compatible
2、工艺温度在 0~700℃之间
Processing temperature can be set between 0 ℃ to 700 ℃
3、占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便
Better footprint, simple structure, flexible operation and easy maintain
4、设备稳定，运营成本低
Reliable performance, lower CoO/CoC
技术参数
1、晶圆尺寸 2/4/6 英寸兼容
2、适用材料 氮化铝
3、适用工艺 氮化铝缓冲层溅射
4、适用领域 化合物半导体
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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