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产品概述：
MOCVD金属有机源气相沉积系统主要由真空室反应系统、气体（载气与气相有机源）输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。
设备用途：
MOCVD金属有机源气相沉积系统作为化合物半导体、超导等薄膜材料研究和生产的手段，特别是作为工业化生产的设备，有着其它半导体设备无法替代的优点。它的高质量、稳定性、重复性及多功能性越来越为人们所重视。它是当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段，如激光器、发光二极管、高效太阳能电池、光电阴极等，是光电子等产业的设备
真空室结构:卧室
真空室尺寸:Ф400mm×300mm（L）
极限真空度:10 Pa
沉积源:设计待定
样品尺寸，温度:设计待定
占地面积（长x宽x高）:约4.5米x3.5米x3米（设计待定）
电控描述:屏幕操作
工艺:不含工艺
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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