高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统

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沈阳科仪

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DZ350

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中国大陆

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数
真空室结构:
U形前开门


真空室尺寸:
φ350×400mm


极限真空度:
≤6.6E-5Pa


沉积源:
2个钨舟、2个有机源


样品尺寸,温度:
50mmx50mm,1片,最高300℃


占地面积(长x宽x高):
约2.5米×1.2米×1.8米


电控描述:
手动


工艺:
不含工艺

产品概述:
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。

设备用途:
热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。





售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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