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掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自动处理系统满足下一代光刻节点在掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-pitch DPT、极紫外光刻 (EUVL) 和纳米压印光刻 (NIL)高要求的创新解决方案。以创新技术最大限度地提高光掩模性能。
MaskTrack Pro 允许用第三方的产品扩展工具集群，并提供一个全面的方法，在全控、高洁环境中存储、处理和加工光掩模。模块化设计确保其具有高度的灵活性并能高度适应客户的要求。MaskTrack Pro 在第一次运行就能提供最佳的清洁效果。
该系统为湿法清洗提供多种物理力技术，包括最高可达3个的预清洗与终清洗腔室，用于剥离隔离、预清洗和终清洗工艺。
原位紫外表面处理与清洗技术
频率最高达4 MHz的高频双兆声波清洗
精密的纳米二元喷雾
聚焦点清洗
DIW-H20脱气，用于控制兆声波工艺中的空化控制
超洁净的冷/热CO2-DI水
臭氧DI水和pH值稳定的电解H2
超稀释的SC1
用于进一步减少图案损伤的碱基新介质
15 nm工艺介质过滤
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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