高真空电子束蒸发薄膜沉积系统
高真空电子束蒸发薄膜沉积系统

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沈阳科仪

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EB900

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中国大陆

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

真空室结构:

U形前开门

真空室尺寸:

900×900×1100mm

极限真空度:

≤6.0E-5Pa

沉积源:

6个40cc坩埚

样品尺寸,温度:

φ4英寸,26片,最高300℃

占地面积(长x宽x高):

约3.5米x3.9米x2.1米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性:≤±3%

特色参数 :

样品尺寸及数量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根据用户基片尺寸设计工件架

产品概述:
系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成,体现立方整体外观,适用于超净间间壁隔离安装,操作面板一端处在相对要求较高超净环境,其余部分(含低温泵抽系统)处在相对要求较低超净环境。

设备用途:
本系统配有一套电子枪及电源,可满足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。


售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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