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Veeco 的 Propel™ HVM GaN MOCVD 系统被设计为一种大批量制造单晶圆反应器簇系统，适用于基于 GaN 的功率、射频和光子器件。采用单晶圆反应器平台，能够在 150 和 200 毫米晶圆上产生高质量外延膜性能，以实现均匀性、可重复性和良率。Propel HVM 系统可配置多达 6 个模块化集群室，以实现最大的生产力和灵活性，是客户、铸造厂或 IDM 业务的理想选择。
单晶圆反应器基于 Veeco TurboDisc® 设计，采用突破性技术，包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ ，可在整个晶圆上提供层流和均匀的温度分布。客户可以轻松地将工艺从 Veeco 的单晶圆反应器 Propel 和 K465i™ 系统转移到 Propel HVM GaN MOCVD 平台，以实现快速开发到生产周期.
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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