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25 年来在离子束产品领域建立领导地位,实现当今无缺陷的 EUV 掩模空白
光掩模制造需要最高水平的颗粒控制,同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来,Veeco 已成功服务于光掩模市场,多年的学习造就了当今最先进的系统。IBD-LDD 系统是当今 EUV 掩模坯料上的钼 (Mo) 和硅 (Si) 多层沉积和钌 (Ru) 封端层沉积的理想选择,以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。
经过生产验证的平台
最低的缺陷密度
优异的均匀性和可重复性
高反射率
在同一腔室中沉积多种材料
可以集成到其他过程模块中,集成到集群工具中
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
VEECO物理气相沉积NEXUS IBD-LDD的工作原理介绍
物理气相沉积NEXUS IBD-LDD的使用方法?
VEECONEXUS IBD-LDD多少钱一台?
物理气相沉积NEXUS IBD-LDD可以检测什么?
物理气相沉积NEXUS IBD-LDD使用的注意事项?
VEECONEXUS IBD-LDD的说明书有吗?
VEECO物理气相沉积NEXUS IBD-LDD的操作规程有吗?
VEECO物理气相沉积NEXUS IBD-LDD报价含票含运吗?
VEECONEXUS IBD-LDD有现货吗?
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