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IXTRON 的化合物半导体沉积 CCS 系统是一种用于化合物半导体材料沉积的设备。
多功能研发平台：配备集成手套箱，具有高度灵活性，可适应多种金属有机源和氢化物源。
可扩展性强：能够实现从研发到大规模生产的无缝过渡，满足不同规模的生产需求。
生长均匀且可重复：采用经过验证的紧密耦合喷头（Close Coupled Showerhead®）反应器，搭配三区加热器，确保了对所有材料系统的固有均匀和可重复生长，能实现较高的材料质量和均匀性。
工艺窗口灵活性高：有利于获得卓越的材料质量和均匀性。
运行成本低：具有低气体流量和高前驱体效率的特点，且维护简便且成本较低。
原位监测功能：配备 Laytec Epitt、Epicurvett 等原位监测技术（可选），并可选配 Aixtron Argus 全晶圆温度映射和 Aixtron Epison®气体浓度传感器。
紧凑的占地面积：节省空间。
晶圆尺寸配置包括 3x2 英寸、6x2 英寸、19x2 英寸等多种规格。
具有动态工艺间隙调整功能，最高工作温度可达 1400°C（部分型号）。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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