UV Litho-S+无掩膜光刻机
UV Litho-S+无掩膜光刻机

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TTT-07-UV Litho-S+

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中国大陆

  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数
  • 最小等间距线栅: 0.5 μm
  • 特征尺寸: 0.5 μm
  • 样品尺寸(最小): 1 inch wafer
  • 样品尺寸(最大): 8 inch wafer

Speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机,其配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性,更在这一基础上,拥有了更高的光刻效率。其独特的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中,它能够发挥出其高效的优势,为生产带来更高的效率和更好的质量。Speed 系列为相关产业提供了更优质的选择,满足了市场对于高效率、高质量生产的需求。

Speed 系列S+产品亮点:

特征尺寸0.5μm

8英寸光刻面积

支持扫描/步进双模式

无掩膜光刻机

S+.png



售后服务承诺

整机质保期: 0年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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