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TTT-07-UV Litho-ACA Pro无掩膜版紫外光刻机的特征尺寸为0.6 μm（光刻镜头C），高性能无铁芯直线驱动电机保证了套刻精度和高达6英寸画幅的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩膜版设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。
【产品亮点】
高精度、真紫外曝光
光刻图案设计灵活
所见即所得的精准套刻
超大面积拼接
灰度曝光
高稳定性，操作便捷
【应用示例】
微流道芯片
微纳结构曝光
电输运测试/光电测试器件
二维材料的电极搭建
太赫兹/毫米波器件制备
光学掩膜版的制作
【系统升级选项】
激光光源
主动隔振平台
3D重构观测
手套箱内集成
【安装需求】
温度：20-40℃
湿度：RH<60%
电源：220V，50Hz
整机质保期: 0年
培训服务: 安装调试现场免费培训
