Durham Magneto Optic 无掩膜直写光刻机
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PSC

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Micro Writer ML3

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美洲

  • 银牌
  • 第3年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

小型台式无掩膜光刻机- MA1200


小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。       

                                ML3-1.jpg         

                                                      

 产品特点 

Focus Lock自动对焦功能
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

光学轮廓仪
MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

focuslock.png

Profiometer.png

标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

Bullseye.png

VMA.png

简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩膜图形设计软件
●  可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
●  书写范围只由基片尺寸决定

software.png

clewin.jpg



售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 免费安装培训

免费仪器保养: 质保期内免费仪器保养

保内维修承诺: 质保期内免费非人为损坏免费维修

报修承诺: 24小时内到达现场并维修

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激光直写光刻机 Micro Writer ML3的使用方法?

PSC Micro Writer ML3多少钱一台?

激光直写光刻机 Micro Writer ML3可以检测什么?

激光直写光刻机 Micro Writer ML3使用的注意事项?

PSC Micro Writer ML3的说明书有吗?

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PSC Micro Writer ML3有现货吗?

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