核心参数
产地类别: 进口
监控薄膜沉积,最强有力的工具
F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性。
分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。 这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。
极大地提高生产力
低成本 —几个月就能收回成本
A精确 — 测量精度高于 ±1%
快速 — 几秒钟完成测量
非侵入式 — 完全在沉积室以外进行测试
易于使用 — 直观的 Windows™ 软件
几分钟就能准备好的系统
型号 | 厚度范围* | 波长范围 |
---|---|---|
F30 | 15nm-70µm | 380-1050nm |
F30-EXR | 15nm - 250µm | 380-1700nm |
F30-NIR | 100nm - 250µm | 950-1700nm |
F30-UV | 3nm-40µm | 190-1100nm |
F30-UVX | 3nm - 250µm | 190-1700nm |
F30-XT | 0.2µm - 450µm | 1440-1690nm |
KLA白光干涉测厚F30的工作原理介绍
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企业名称
科磊半导体设备技术(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
外资
信用代码
913100007630299604
成立日期
2004-02-01
注册资本
400万美元
经营范围
半导体及微电子产品生产设备的研发,提供相关工程程序控制和生产管理解决方案,软件开发,提供相关技术转让和技术咨询服务,机械设备及零部件的进出口。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】