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科瓦普物理气相沉积平台是蛤蜊壳室,便于接近。即使在手套箱中也可以轻松装载材料和基材。为移除屏蔽层、清洁和为下一次运行准备系统提供畅通无阻的通道。紧凑的 600 mm x 1000 mm 系统占用空间。涡轮分子泵提供高真空。QCM传感器经过精心隔离,以确保不会受到相邻源材料的干扰。包括全系统培训。 特征基于配方的多层控制。顺序沉积或共同沉积。夹具支持高达 100mm x 100mm 的基材。准备进行手套箱集成。源配置可轻松安装最大 100 mm x 100 mm 的基板尺寸。腔室可容纳 2 或 4 个热阻源。
Angstrom Engineering 的 COVAP PVD 平台是一种灵活的、与洁净室兼容的涂布平台,能够大批量生产100毫米至1200毫米的基板和/或批量生产较小的部件。其外形尺寸提供了出色的膜厚均匀性,并为先进的夹具选项提供了充足的空间。所有箱式涂布机平台配置都能对膜厚不均匀性、材料产量和产量进行主动建模和校正。
该平台的技术参数包括:
尺寸:可生产100-1200mm基板。
镀膜源:溅射(射频、直流、脉冲直流、HIPIMS 和反应式)、热蒸发(使用各种舟形、丝状和坩埚加热器)、电子束蒸发(提供多种源功率和电源选项)。
等离子和离子束处理:使用一系列离子源进行清洗和薄膜增强,包括辉光放电等离子清洗。
金属化:在金属表面沉积一层或多层金属薄膜,以提高其耐腐蚀性、耐磨性和导电性等性能。
光学镀膜:在光学元件表面沉积一层或多层光学薄膜,以改变其光学性能,如反射率、透过率和折射率等。
半导体沉积:在半导体材料表面沉积一层或多层薄膜,以制备半导体器件,如晶体管、集成电路等。
太阳能电池:在太阳能电池表面沉积一层或多层薄膜,以提高其光电转换效率。
数据存储:在硬盘、光盘等数据存储介质表面沉积一层或多层薄膜,以提高其存储密度和读写速度。
生物医学:在医疗器械表面沉积一层或多层薄膜,以提高其生物相容性和耐腐蚀性。
总的来说,Angstrom Engineering 的 COVAP PVD 平台是一款功能强大、性能稳定的物理气相沉积设备,广泛应用于半导体、光学、太阳能、数据存储等领域。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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