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核心参数
刻蚀原理： 等离子体刻蚀
产地类别： 进口
刻蚀原理： 搭载有磁场ICP（ISM）或NLD等离子源
刻蚀速率： 1um
刻蚀剖面： 6寸
选择比： 1:20
均匀性： ±5%
残留物： 1%
宽深比： 1:20
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
低成本效益高
RIE等离子蚀刻机Etchlab 200结合平行板等离子体源设计与直接置片。
升级扩展性
根据其模块化设计，等离子蚀刻机Etchlab 200可升级为更大的真空泵组，预真空室和更多的气路。
SENTECH控制软件
该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件，具有模拟图形用户界面，参数窗口，工艺编辑窗口，数据记录和用户管理。
Etchlab 200 RIE等离子刻蚀机代表了直接置片等离子刻蚀机家族，它结合了RIE的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。Etchlab 200的特征是简单和快速的样品加载，从零件到直径为200mm或300mm的晶片直接加载到电极或载片器上。灵活性、模块性和占地面积小是Etchlab 200 的设计特点。位于顶部电极和反应腔体的诊断窗口可以方便地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH原位椭偏仪进行原位监测。
Etchlab 200等离子蚀刻机可以配置成用于刻蚀直接加载的材料，包括但不限于硅和硅化合物，化合物半导体，介质和金属。
Etchlab 200通过先进的SENTECH控制软件操作，使用远程现场总线技术和用户友好的通用用户界面。
Etchlab 200
· RIE等离子蚀刻机
· 开盖设计
· 适用于200mm的晶片
· 用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
· 选配椭偏仪接口
带预真空室Etchlab 200
· 带预真空室的RIE刻蚀机
· 适用于4英寸到8英寸的晶片
· 小片或碎片的载片器
· 氯基刻蚀气体
· 更大的真空泵组
Etchlab 200-300
· RIE等离子蚀刻机
· 开盖设计
· 适用于300mm的晶片
· 用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
等离子体刻蚀Etchlab 200的工作原理介绍
等离子体刻蚀Etchlab 200的使用方法?
Etchlab 200多少钱一台?
等离子体刻蚀Etchlab 200可以检测什么？
等离子体刻蚀Etchlab 200使用的注意事项？
Etchlab 200的说明书有吗？
等离子体刻蚀Etchlab 200的操作规程有吗？
等离子体刻蚀Etchlab 200报价含票含运吗？
Etchlab 200有现货吗？
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
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