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核心参数
仪器种类： 高真空快速退火炉
产地类别： 进口
样品尺寸： 6英寸
温度范围： 可在常压或者真空（控压）下工作
最高升温速率： 150 K/s
降温速率： 150 K/s
退火温度准确性： ±1度
退火温度均匀性： 95%
centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150
centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物（SiC）或镓-氮化合物（GaN） 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低，所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。
特点：
高活化率
表面粗糙程度最小
温度最高达 1850°C
批量规模高达 50硅片（150mm）
加热率最高达 150 K/min
通过SiH4可实现硅“过压
Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200,科研专属
CLV200 小批晕生产用垂直炉管
I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产
centrotherm C LV 200 是一个独立的小批量晶圆 生产设备，能实现各项热处理工艺，适用于少量生产及 研发。
cent rot herm 工艺反应 腔体及加热系统有着独特的设计， zui高升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小（一批至多 50 片晶圆）， CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺，降低顾客研发费用。
cent rot herm 的设计在高效， 低耗上非常出色， 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。
常压工艺退火
氧化
扩散LPCVD PECVD
Zui高温度可达 11 00° C
净化间占用面积小 [1.6 m叮
售 批量生产 100 mm 至200 mm 晶圆售 一批最高可处理 50 片晶圆
售 全自动 cassette -to-cassette 传片
退火炉centrotherm Activator150的工作原理介绍
退火炉centrotherm Activator150的使用方法?
centrotherm Activator150多少钱一台?
退火炉centrotherm Activator150可以检测什么？
退火炉centrotherm Activator150使用的注意事项？
centrotherm Activator150的说明书有吗？
退火炉centrotherm Activator150的操作规程有吗？
退火炉centrotherm Activator150报价含票含运吗？
centrotherm Activator150有现货吗？
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
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