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核心参数
刻蚀原理： 等离子体刻蚀
产地类别： 进口
刻蚀原理： 搭载有磁场ICP（ISM）或NLD等离子源
刻蚀速率： 1um
刻蚀剖面： 6寸
选择比： 1:20
均匀性： ±5%
残留物： 1%
宽深比： 1:20
RIE等离子刻蚀机SI 591
工艺灵活性
RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺
占地面积小且模块化程度高
SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。
SENTECH控制软件
我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。
预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件，使得SI 591 具有优异的工艺再现性和等离子体蚀刻工艺灵活性。灵活性、模块性和占地面积小是SI 591的设计特点。样品直径大可达200mm，通过载片器加载。SI 591可以配置为穿墙式操作或具有更多选项的小占地面积操作。
位于顶部电极和反应腔体的更大诊断窗口可以轻易地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH椭偏仪进行原位监测。
SI 591结合了计算机控制的RIE平行板电极设计的优点和预真空室系统。SI 591可配置用于各种材料的刻蚀。在SENTECH，我们提供不同级别的自动化程度，从真空片盒载片到一个工艺腔室或多六个工艺模块端口，可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统，目标是高灵活性或高产量。SI 591也可用作多腔系统中的一个工艺模块。
SI 591 compact
· 占地面积小的RIE等离子刻蚀
· 预真空室
· 卤素和氟基气体
· 适用于200mm的晶片
· 用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
等离子体刻蚀SI 591的工作原理介绍
等离子体刻蚀SI 591的使用方法?
SI 591多少钱一台?
等离子体刻蚀SI 591可以检测什么？
等离子体刻蚀SI 591使用的注意事项？
SI 591的说明书有吗？
等离子体刻蚀SI 591的操作规程有吗？
等离子体刻蚀SI 591报价含票含运吗？
SI 591有现货吗？
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
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