核心参数
刻蚀原理: 等离子体刻蚀
产地类别: 进口
刻蚀原理: 搭载有磁场ICP(ISM)或NLD等离子源
刻蚀速率: 1um
刻蚀剖面: 6寸
选择比: 1:20
均匀性: ±5%
残留物: 1%
宽深比: 1:20
高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料(强电介质层、贵金属、磁性膜等)的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。
产品特性 / Product characteristics
有磁场ICP(ISM)方式-可产生低圧?高密度plasma、为不挥发性材料加工的专用设备。
可提供对应从常温到高温(400oC)的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。
通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。
该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构,是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。
实现了长期的再现性、安定性
产品应用 / Product application
FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.
等离子体刻蚀高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H的工作原理介绍
等离子体刻蚀高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H的使用方法?
高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H多少钱一台?
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企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)