核心参数
仪器种类: 高真空快速退火炉
产地类别: 进口
样品尺寸: 6英寸
温度范围: 可在常压或者真空(控压)下工作
最高升温速率: 150 K/s
降温速率: 150 K/s
退火温度准确性: ±1度
退火温度均匀性: 95%
Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150
Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯,提供了出色的控温精度和控温重复性。
此款设备配置手动装载系统,适用于研发以及小型的量产。
成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性,结合小的占地面积,低的客户拥有成本,使c.RAPID 150成为一款最佳的手动RTP设备。
退火:一般退火、接触层(Contact)退火、源/漏退火、势垒金属退火
硅化
氧化
掺杂活化
可在常压或者真空(控压)下工作
高度灵活性:适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘
升温速率约150 K/s
出色的温度均匀性
精确的环境控制
高的设备可靠性
可以并排安装
Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备,主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。
RTP 150型快速热反应设备,采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要,是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。
RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制,采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。
RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。
设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。
设备特点:
压力可控的真空或大气环境下工作
高灵活性:最大6寸硅片或其他材料
温度范围:20℃~1150℃
不限时加热的工艺温度可达 750℃
升温速率可达150k/s(即150℃/秒)
每个加热灯管独立控制,极高的温度均匀性
±0.5℃温度一致性
长寿命加热灯管,低维护成本
典型应用:
金属接触退火
掺杂物活化
源极/漏极退火
干氧化
薄晶圆退火
设备参数:
应用: 生产或研发
基板材料: 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石
晶圆尺寸: 最大6寸
加热系统: 24组加热灯,PWM控制
冷却水: 20 L/分钟
排 风: 250 m3/小时
可选件:
用于温度曲线调整的温度测量系统
用于全自动操作的双机械手臂
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SiC元件量产的离子注入
针对SiC材料以及元件的离子注入,涉及:高温炉、快速退火设备、高能离子注入等设备;与硅晶圆相比,SiC晶圆容易因离子注入而产生结晶缺陷,注入离子时需要将晶圆温度维持在500℃的高温,在控制结晶缺陷产生的同时,注入离子。
电子/电气
2020/01/13
企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)