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核心参数
加热方式： 其它
应用领域： 半导体
产地类别： 进口
沉积速率： 详见资料
沉积薄膜种类： 详见资料
控制气体： 详见资料
背底真空： 详见资料
工作气压： 详见资料
内部尺寸： 详见资料
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法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150
SSDR150 微波等离子体化学气相沉积系统专门用于合成 CVD 金刚石薄膜，能够制备高纯单晶(需高纯气源）、厚单晶、大单晶、多晶薄膜、光学级窗口。SSDR150 不断优化的微波及等离子体设计，是一款可靠的、稳定的、长时间运行的金刚石薄膜生长系统，能够完美地适用于高校科研和企业生产。
SSDR150 系统特点
。 铝合金腔体+内置石英管反应室，支持长时间高功率下工作
。工艺气压可达 350 mbar 或更高，可以高速率生长单晶
。微波源为 2.45GHz、最大功率 6 kW，高耦合效率
。标准配置 4 条气路，最多可增加至 7 条气路（掺杂气路）
。2 英寸水冷样品台，高度电动可调、精度优于 10μm (可选)
。双色红外高温计测试样品表面温度，范围 475-1475 °C
。爱德华兹分子泵+ 干泵，最佳真空度≤ 3×10-7 mbar
。高水平金刚石生长工艺培训及演示（内容根据应用而定）
。全自动控制、半自动和手动可用，图形化操作界面（GUI）
。多级用户设置和管理、远程诊断和维护、数据导出接口
。多用途：高纯度单晶、厚单晶、大单晶、掺杂、光学窗口
。设备维护少、安全、可靠、稳定、性价比高
应用领域
。切削刀具、耐磨涂层、热沉材料、SAW
。光学窗口、激光晶体、电化学电极、CNT
。生物传感器、微机电系统、光电探测器
。商用宝石、低压高温退火处理、量子计算
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SSDR150 性能表现
多晶金刚石:
• 液氮温度下 PL 检测 无明显氮
• 生长速率: 高达 10 μm/h, 取决于生长工艺
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• 生长速率: 高达 20 μm/h, 取决于生长工艺条件
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化学气相沉积（CVD）SSDR 150 的工作原理介绍
化学气相沉积（CVD）SSDR 150 的使用方法?
SSDR 150 多少钱一台?
化学气相沉积（CVD）SSDR 150 可以检测什么？
化学气相沉积（CVD）SSDR 150 使用的注意事项？
SSDR 150 的说明书有吗？
化学气相沉积（CVD）SSDR 150 的操作规程有吗？
化学气相沉积（CVD）SSDR 150 报价含票含运吗？
SSDR 150 有现货吗？
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