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德 Iplas 微波等离子化学气相沉积MPCVD

品牌: iplas
产地: 德国
型号: 德国IPLAS微波等离子化学气相沉积系统
报价: ¥498万 - 500万
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核心参数

加热方式: 其它

应用领域: 半导体

产地类别: 进口

沉积速率: 详见资料

沉积薄膜种类: 详见资料

控制气体: 详见资料

背底真空: 详见资料

工作气压: 详见资料

内部尺寸: 详见资料

产品介绍


德 Iplas 微波等离子化学气相沉积


75. Iplas.png


详细细介绍

德国 IPLAS 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。

MPCVD是世界公认的制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司专利的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局限,可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团,最大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证。

 

化学机理概要:

碳氢化合物:提供沉积材料

氢气:生成sp3键

氧:对石墨相/sp2键侵蚀

惰性气体:缓冲气体,或生成纳米晶体。

 

适用合成材料:

大尺寸宝石级单晶钻石

高取向度金刚石晶体

纳米结晶金刚石

碳纳米管/类金刚石碳(DLC)

 

多种等离子发生器选择:
 
频率:2.45GHz, 915MHz:
 
功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW
 
等离子团直径:70mm, 145mm, 250mm, 400mm
 
工作其他范围:0-1000mBar 
 
                    

 

其他应用:


MPCVD同样适用于平面基体,或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累,可以为用户提供高度定制的设备,满足用户不同的应用需要。
 
 


75. Iplas.png     image.png 



 

 

 

 


 

                 
  




售后服务
保修期: 1年
是否可延长保修期:
现场技术咨询:
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次。
保内维修承诺: 经确认质量问题,免费更换。
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
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工商信息

企业名称

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司

信用代码

91440300789207446B

成立日期

2006-05-17

注册资本

1080万

经营范围

机械设备研发,工程和技术研究和试验发展,半导体器件专用设备销售,光学仪器销售,实验分析仪器销售,集成电路芯片及产品销售,电子专用材料销售。

联系我们
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