清洗方法: 湿法清洗
产地类别: 进口
设备类型: 单晶圆清洗
晶圆尺寸: 8寸/12寸
相关技术: 化学液清洗、PVA刷清洗、兆声清洗
尺寸: 1200mm*850mm*1900mm
适用制程、应用范围: 半导体工艺制程环节中清洗工艺
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n产品简介
CHEMIXX CMP 30pm是一款专门为晶圆双面清洗设计的系统,独立系统,占地面积小,非常适合有限的空间。具有4路化学液清洗,兆声清洗,PVA刷洗,去离子水冲洗等清洗模块,对晶圆有顶级的清洗能力。
n产品特色
÷ 晶圆最大 300mm PVA
÷ 双面清洗双面刷洗
÷ PVA双面刷洗
÷ 支持4路化学液清洗,包括氨水与SCI
÷ 工作台含驱动组件,用于晶圆低速旋转(50-100 rpm)
÷ 化学清洗臂含 4 路化学液
÷ 具有去离子水和稀释氨分配的水坑喷嘴
÷ 具有去离子水的 BSR(背面冲洗)喷嘴
÷ 具有带有流通孔的工艺室
÷ 标配三种不同化学品供应系统
÷ 工艺室外的手动去离子水枪。
÷ 化学液可加热,最高可达 60°C(最高85°C )
÷ 外部可更换化学液
÷ 支持兆声清洗
÷ 支持高压等离子水冲洗
n技术数据
÷ 衬底尺寸: ?200 mm (?8 inch) 或 ?300 mm (?12 inch)
÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步长 1rpm
÷ 电机加速: 1 至 999.9 秒,步长 0.1 s
÷ 工艺腔室: 由 PP 白色制成(可选 PVDF)
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 培训人数不限
免费仪器保养: 半年1次
保内维修承诺: 免费维修更换零配件
报修承诺: 接到用户产品维修需求,3小时内做出反应。
Osiris湿法清洗设备CHEMIXX CMP 30pm的工作原理介绍
湿法清洗设备CHEMIXX CMP 30pm的使用方法?
OsirisCHEMIXX CMP 30pm多少钱一台?
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OsirisCHEMIXX CMP 30pm的说明书有吗?
Osiris湿法清洗设备CHEMIXX CMP 30pm的操作规程有吗?
Osiris湿法清洗设备CHEMIXX CMP 30pm报价含票含运吗?
OsirisCHEMIXX CMP 30pm有现货吗?
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