刻蚀原理: 化学刻蚀
产地类别: 进口
刻蚀原理: 化学液刻蚀
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n产品简介
CHEMIXX E 30 湿法刻蚀系统专门用于掩膜版与晶圆的刻蚀与清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液体。
n产品特色
÷ 人工装卸半自动化系统
÷ 掩膜版尺寸(方形衬底)高达 230 x 230 毫米/9 x 9 英寸
÷ 晶圆尺寸高达 300 毫米(?12 英寸)
÷ 耐腐蚀工艺室
÷ 两个自动输送臂,用于化学刻蚀及清洗
÷ 输送臂最大6路管路
÷ 提供多种喷嘴
÷ 低接触或定制夹头
÷ 化学液具有加热选项:20 - 80°C
÷ 腔室冲洗喷嘴系统
÷ 去离子水的 BSR(背面冲洗)喷嘴
÷ 工艺室外的手动去离子水枪
÷ 最大的集成3个化学试剂容器罐(每个 10 升),具有化学液自动排放系统
÷ 不同化学品的外部化学试剂容器罐可选(H2SO4、H2O2、NH4OH、HF、BOE)
÷ 手动灌装或通过批量灌装系统
÷ 清洗模组可选用化学液,噪声,PVA刷洗,高压等离子水冲洗
÷ 支持SCES/GEM 通讯协议
n技术数据
÷ 衬底尺寸: 最大可达 230 x 230 mm (9″x 9″) 或 ? 300mm (?12″)
÷ 电机转速: 最大 4.000 rpm, 步长 1 rpm
÷ 电机加速: 最大 5.000 rpm/s, 步长 1 rpm/s
÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒,步长 0.1 s
÷ 工艺腔材料: PP (可选 PVDF)
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 培训人数不限
免费仪器保养: 半年1次
保内维修承诺: 免费维修更换零配件
报修承诺: 接到用户产品维修需求,3小时内做出反应。
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