核心参数
曝光模式: 接近式
产地类别: 进口
分辨率: 与EVG的大批量生产粘合系统完全兼容
光源: 兼容EVG机械和光学对准器
光源波长: 各种工艺(共晶,焊料,TLP,直接粘合)
光强均匀性: 独特的压力和温度均匀性
曝光面积: 用于研发或小批量生产的晶圆键合系统-与大批量生产设备完全兼容
ComBond®Automated High-Vacuum Wafer Bonding System
ComBond®自动化的高真空晶圆键合系统
高真空晶圆键合平台促进“任何物上的任何东西”的共价键
EVG ComBond高真空晶圆键合平台标志着EVG独特的晶圆键合设备和技术产品组合中的一个新里程碑,可满足市场对更复杂的集成工艺的需求。 EVG ComBond支持的应用领域包括先进的工程衬底,堆叠的太阳能电池和功率器件到高端MEMS封装,高性能逻辑和“超越CMOS”器件。
EVG ComBond系统的模块化集群设计提供了高度灵活的平台,可以针对研发和高通量,大批量制造环境中的各种苛刻的客户需求量身定制。 EVG ComBond促进了具有不同晶格常数和热膨胀系数(CTE)的异质材料的粘合,并通过其独特的氧化物去除工艺促进了导电键界面的形成。 EVG ComBond高真空技术还可以实现铝等金属的低温粘合,这种金属可以在周围环境中快速重新氧化。对于所有材料组合,都可以实现无空隙和无颗粒的粘结界面以及出色的粘结强度。
特征
高真空,对齐,共价键合
在高真空环境(<5·10-8 mbar)中进行处理
原位亚微米面对面对准精度
高真空MEMS和光学器件封装原位表面和原生氧化物去除
优异的表面性能
导电结合
室温过程
多种材料组合,包括金属(铝)
无应力粘结界面
高粘结强度
用于HVM和R&D的模块化系统
多达六个模块的灵活配置
基板尺寸最大为200毫米
完全自动化
技术数据
真空度:处理:<7E-8 mbar;处理:<5E-8毫巴
集群配置
处理模块:最小 3,最大 6
加载:手动,卡带,EFEM
可选的过程模块:
键合模块
ComBond®激活模块(CAM)
烘烤模块
真空对准模块(VAM)
晶圆直径:高达200毫米;
EVG激光直写光刻机自动化的高真空晶圆键合系统的工作原理介绍
激光直写光刻机自动化的高真空晶圆键合系统的使用方法?
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企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)