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ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550
特点：
等离子密度与向基板入射的能量能够单独控制，因此Process window宽。
均一性好。
离子性蚀刻到radical性蚀刻都能都大幅度控制。
构造简单，维护性能优越。
来自半导体技术研究所的工艺支持体制。
CS（Customer’s Support ）解决方案的综合服务体制。
可选Cassette室，提高生产量。
丰富的Process Application：
1.ISM: Inductively Super Magnetron有磁场ICP型
2.ISM是可以由低电源得到稳定均一的放电，达到Damage最少的蚀刻。
3.使用不挥发性材料的次时代memory‐Al2O3,磁性体，Pt, Ir, PZT, SBTO 等
4.超高频率器件，光器件。
‐绝缘膜，GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, Sapphire，GaN，STO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, Polyimide，BST, STO
5.各种传感器器件等Photo Nic结晶。
6.MEMS(micromachine）
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企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
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