RAITH电子束曝光设备

RAITH电子束曝光设备资料

一、基本信息:

品牌名称：RAITH

主要设备：电子束曝光及成像系统、图形发射器。

主要用途：在化合物半导体等领域加工线宽8-350纳米图形或掩膜板加工。                             

二、设备及应用:

(一). 多功能电子束光刻设备Pioneer Two:

 Pioneer Two是一款高性价比的成套的电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。

20keV下在HSQ胶上曝光亚8nm线条

(二). 多功能电子束光刻设备eLine Plus:

    eLine Plus是一款集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件的电子束光刻设备，广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kV Gemini电子束技术，应用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪、聚焦电子束诱导和成像分析等。 

HSQ胶上制作亚5nm线条

(三). 专业型电子束光刻设备Raith150 Two:  

    Raith150 Two是一款高分辨电子束光刻设备，采用30kV Gemini电子束技术，应用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻，可实现亚5nm的曝光结构。

HSQ胶上制作亚4.5nm线条及PMMA胶上制作精细的11nm线条

(四). 专业型电子束光刻设备Voyager:  

    Voyager是一款高性价比采用创新的eWrite体系结构的电子束光刻设备，采用50kV eWrite 电子束技术，应用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的高速直写，适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。

HSQ胶上制作亚7nm线条

(五). 专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200:  

    EBPG5150/5200是一款高自动化的电子束光刻设备，采用100kV EBPG 电子束技术，应用于8英寸以下基板（5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸）的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。

制作GaAs T型器件及在化合物半导体上的应用

(六). 纳米加工和纳米光刻升级配件Elphy:  

    Elphy系列光刻升级配件可以将现有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦离子束电子束系统升级为纳米光刻和纳米加工设备。