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核心参数
产地类别： 进口
RIE反应离子刻蚀 SI 591
反应离子刻蚀机SI 591采用模块化设计，可满足III/V半导体和Si加工工艺领域的的灵活应用。 SENTECH SI 591可应用于各种领域的蚀刻工艺中，能够完成多种刻蚀加工。
主要特点:
高均匀性和优重复性的蚀刻工艺
预真空锁loadlock
电脑控制操作
SENTECH高级等离子设备操作软件
数据资料记录
穿墙式安装方式
刻蚀终点探测
系统配置:
平行板式反应线圈，13.56 MHz (600 W)
喷淋头式进气
预真空锁loadlock， 带有取放机械手
绝缘、冷却和加热电极(-25℃至80℃)，基底4"-8"直径，基底托架可支持小片材料和多晶圆。
PLC控制, PC
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企业名称
北京亚科晨旭科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110105009081828
成立日期
2005-11-28
注册资本
500
经营范围
技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
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