NANO-MASTER电子束蒸镀系统

NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000

NANO-MASTER那诺-马斯特NEE-4000型E-Beam电子束蒸发系统,有两种不同的构造可供选择。

第一种为垂直紧连的双腔架构，其中主腔体是14英寸的立方体，其内有样品台，底部二级腔体则用于安置电子束源。这种构造可在两个腔体之间装有门阀互锁，可实现主腔体放取片过程保持电子束源和坩埚的真空状态。若需实现自动上下片，通过在主腔体左边增加带真空阀门的进样室即可。这样，主腔体可以持续保持10-7托范围的低压，装片后几分钟内就可进行蒸镀。

NANO-MASTER那诺-马斯特的E-Beam电子束蒸镀系统的第二种构造为一个独立大腔体，基板上安装电子束蒸镀腔、磁控枪和热蒸镀。该构造可涂覆多种尺寸的晶圆，过程中使用行星运动的样品台。
 
NANO-MASTER公司的E-Beam电子束蒸镀系统可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升级支持自动上下片，以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的E-Beam电子束蒸镀系统，也可以跟磁控溅射和热蒸镀系统等集成，另外也可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它怎空系统实现双系统的组合。

特点：

** 电抛光14"立方体或21"x21"x22"不锈钢优化蒸镀腔体
** 680 l/sec 涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
** 4x 15CC pocket电子枪
** 电子束源和基片遮板
** 6KW开关电源，杰出的消弧性能
** 自动Pocket索引以及可编程的扫描控制器
** 膜厚监测，可设置目标膜厚作为工艺终点条件
** 旋转样品台，提供高均匀性
** 带观察视窗的腔门，便于放片/取片
** PC全自动控制，具有高度的可重复性
** Labview软件的计算机全自动工艺控制控
** 多级密码保护的授权访问设计
** EMO保护以及完全的安全联锁

选配：

** 基片加热(最高可到800℃)或冷却
** 带旋转的倾斜沉积
** 行星式基片夹具
** 基片RF/DC偏压
** 基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀
** 附加物理沉积源（热蒸镀，磁控溅射）
** 用于反应蒸镀的MFC
** 不同的泵组选择，可升级分子泵为冷泵，前级泵为干泵
** 进样室和自动上下片/可支持单片和25片片匣

应用：

** 剥离
** 光学涂覆
** 铜铟镓硒(CIGS)
** 约瑟夫森连接
** OLED
** 其它的金属和介质材料的电子束蒸镀