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日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z
装置外观·功能
NE-550Z是高真空load-lock式干法等离子刻蚀装置,适用于半导体材料、金属材料等的精细刻蚀
装置发展历史-安定性好
NE装置发展简史.装置运行历史长,安全稳定性值得信赖.
NE-550系统特徵一览
装置优势性能-1-省空间
占地面积:占地面积小,含操作维护空间3700x700mm
装置优势性能-2-C室可减配/适应不同需求
搬运方式:装置集成化设计,搬运省时便捷
装置优势性能-3-ISM等离子体性能
装置优势性能-4-压片方式 (ESC)
Substrate Chuck System and Shield(ESC)
?基板与电极接触更好
?基板冷却更均匀
?基板工艺面全覆盖
?简化流程效率更高
?耗材少故障率低
装置优势性能-4-压片方式(机械式)
Substrate Chuck System and Shield (Mechanical chuck)
适用于Φ230mm 托盘
装置优势性能-5-等离子体覆盖面积广
Star 电极可以扩大放电范围,在 干法cleaning时,增加清洗范围, 增强清洁效果。
装置优势性能-6-基板尺寸兼容好
基板兼容性:可通过更换ESC电极,兼容各尺寸基板
装置优势性能-7-操作方便
操作:ULVAC onboard! PLC control+PC interface.
装置优势性能-8-对话界面简洁
对话界面:english通用版、简洁易识别。
装置所有机构界面上都有显示,也可以操格。
装置优势性能-9-工艺菜单编辑简单
工艺莱单编辑界面:english版,操作简单易识别。
装置优势性能-10-log 功能
数据Log:PC保存,可以导出Excel格式,便于分析
装置优势性能-11-综合性能对比
Dry Etch System for Institute and other small batch production equipment
装置施设参数
设施要求:点击查看详细
企业名称
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司
信用代码
91440300789207446B
成立日期
2006-05-17
注册资本
1080万
经营范围
机械设备研发,工程和技术研究和试验发展,半导体器件专用设备销售,光学仪器销售,实验分析仪器销售,集成电路芯片及产品销售,电子专用材料销售。
公司地址
深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902
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公司名称: 深圳市蓝星宇电子科技有限公司
公司地址: 深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902 联系人: 廖敬强 13538131258,徐翠兰15915408056 邮编: 518104 联系电话: 400-860-5168转4527
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