日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z

日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z

装置外观·功能

NE-550Z是高真空load-lock式干法等离子刻蚀装置，适用于半导体材料、金属材料等的精细刻蚀

装置发展历史-安定性好

NE装置发展简史.装置运行历史长，安全稳定性值得信赖.

NE-550系统特徵一览

装置优势性能-1-省空间

占地面积：占地面积小，含操作维护空间3700x700mm

装置优势性能-2-C室可减配/适应不同需求

搬运方式：装置集成化设计，搬运省时便捷

装置优势性能-3-ISM等离子体性能

装置优势性能-4-压片方式 (ESC)

Substrate Chuck System and Shield(ESC)

?基板与电极接触更好

?基板冷却更均匀

?基板工艺面全覆盖

?简化流程效率更高

?耗材少故障率低

装置优势性能-4-压片方式(机械式)

Substrate Chuck System and Shield (Mechanical chuck)

适用于Φ230mm 托盘

装置优势性能-5-等离子体覆盖面积广

Star 电极可以扩大放电范围，在 干法cleaning时，增加清洗范围， 增强清洁效果。

装置优势性能-6-基板尺寸兼容好

基板兼容性：可通过更换ESC电极，兼容各尺寸基板

装置优势性能-7-操作方便

操作：ULVAC onboard! PLC control+PC interface.

装置优势性能-8-对话界面简洁

对话界面：english通用版、简洁易识别。

装置所有机构界面上都有显示，也可以操格。

装置优势性能-9-工艺菜单编辑简单

工艺莱单编辑界面：english版，操作简单易识别。

装置优势性能-10-log 功能

数据Log:PC保存，可以导出Excel格式，便于分析

装置优势性能-11-综合性能对比

Dry Etch System for Institute and other small batch production equipment

装置施设参数

设施要求：点击查看详细