核心参数
曝光模式: 接触式
产地类别: 进口
分辨率: 详见资料
光源: 详见资料
光源波长: 详见资料
光强均匀性: 详见资料
曝光面积: 详见资料
DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器,适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构,许多系统功能是与这些机构合作开发,及先进技术不断改进以增加高分办率:DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm,提供了极高的分辨率,优于或等于研发领域中最强大的光学光刻系统。
基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上,多样化选择可提高灵活性,使系统适用于更多应用领域。
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企业名称
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司
信用代码
91440300789207446B
成立日期
2006-05-17
注册资本
1080万
经营范围
机械设备研发,工程和技术研究和试验发展,半导体器件专用设备销售,光学仪器销售,实验分析仪器销售,集成电路芯片及产品销售,电子专用材料销售。
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
公司地址
深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902
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