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EZ 紫外纳米压印设备:PL200,PL400,PL600可供实验室研发使用的UV纳米压印设备,通过一步骤和Auto-ReleaseTM自动脱膜技术,同时压印效果可达10nm,且具备准确套刻能力,该技术由惠普实验室研发(HP Lab.).该设备是业内最 具性价比的产品,在业内多家著 名的纳米实验室使用。
设备型号:PL200/PL400/PL600
可实现高质量的图形复制 可实现纳米热压设备的一切功能,而无需昂贵的工艺设备。
典型应用 在硅片上制作纳米级光栅 压印易碎的材料(例如III-V族材料) 微结构加工 制作压印印章 保护母版的适用寿命 热压高深宽比结构图形
主要性能 Wafer尺寸:2英寸,4英寸,6英寸;(可兼容小尺寸及不规则衬底压印工艺) 压印尺寸:2,4,6英寸;(全图形压印) 压印压力:0~25PSI(可升级到最 大100PSI) 模板尺寸:6,4,2,1” 典型压印时间:小于5分钟/wafer Auto-Realease 自动脱膜工艺(无需特殊设备,自动脱膜工艺保证了纳米压印的高良率) 可根据用户和研发的需要扩张各种功能和应用 PLC触摸屏控制 兼容传统的聚合物UV固化工艺 压印效果可达10nm 产品良率可达99% 可完成对准功能(可选) 可提供模板制作及压印胶等辅助材料(可选)
可支持压印工艺:
纳米压印模板自动脱离工艺-减少纳米压印结构缺陷纳米压印胶点胶装置-可过滤0.20um的杂质,保证压印效果纳米压印单层压印工艺-适合刻蚀(etching)工艺纳米压印双层压印工艺-适合剥离(lift-off)工艺纳米压印程序设定及优化工艺-可掌握纳米压印关键技巧纳米压印模板抗粘层处理及材料-可对模板进行抗粘层处理纳米压印模板复制工艺-可完成复制母版工艺纳米压印快速模板转换工艺-可使用硅模板简单转化并实现UV压印工艺纳米压印软膜压印工艺-提供完整的软膜压印工艺,可完成曲面压印并减少压印结构缺陷应用实例:
企业名称
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司
信用代码
91440300789207446B
成立日期
2006-05-17
注册资本
1080万
经营范围
机械设备研发,工程和技术研究和试验发展,半导体器件专用设备销售,光学仪器销售,实验分析仪器销售,集成电路芯片及产品销售,电子专用材料销售。
公司地址
深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902
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公司名称: 深圳市蓝星宇电子科技有限公司
公司地址: 深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902 联系人: 廖敬强 13538131258,徐翠兰15915408056 邮编: 518104 联系电话: 400-860-5168转4527
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