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当前位置： 蓝星宇 > 其他 > URE-2000/35A 型紫外单面光刻机

URE-2000/35A 型紫外单面光刻机

品牌：
产地： 四川
型号： URE-2000/35A
报价： 面议
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产品介绍

URE-2000/35A 型紫外单面光刻机

1．技术特征——非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
 
2．技术参数
。曝光面积：6 英寸
。曝光波长：365nm
。分辨力：1-1.2μm（胶厚 2 μm的正胶）
。对准精度：±0.8μm
。掩模样片整体运动范围：X：15mm;  Y:15mm
。掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸
。样片尺寸：直径 ±15mm-- ±150mm（各种不规则片） 21厚度 0.1mm--6mm
。曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量
。具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能
。照明不均匀性： 6%（±150mm 范围）
。双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
           物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍
           目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍
。调平接触压力通过传感器保证重复
。数字设定对准间隙和曝光间隙
。具备压印模块接口，也具备接近模块接口
。掩模相对于样片运动行程：
  X: ±5mm; Y: ±5mm; Thelta: ±6o
。最大焦厚：350μm（SU8 胶，用户提供检测条件）
。光源平行性：3.5 o
。曝光能量密度：>15mW/cm2,照明面温度<35 o
。单层曝光一键完成
。采用球气浮自动找平
。汞灯功率：350W（直流，进口）
 
3．外形尺寸：1200mm（长）x900mm(宽) x1750mm（高）
 
4．配置
 
（1）曝光头
。冷光椭球镜
。350W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)
。XYZ 汞灯调节台
。冷却风扇
。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2
 
（2）对准工件台
。掩模样片整体运动台
。掩模样片相对运动台
。转动台
。样片调平机构,三点自动完成22
。样片调焦机构，电机自动调
。基片抽拉式上下机构
。承片台 4 个：?15mm 、3 英寸、4 英寸、6 英寸（可按用户要求增减）
。掩模夹 4 个：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸（可按用户要求增减）
 
（3）对准显微镜
。光源（配备品 2 只）、 电源
。双目双视场对准显微镜主体
。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）
。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）
。CCD 对准系统，21 寸液晶显示器
 
（4）电控系统
。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)
。单片机控制系统
。控制柜桌
 
（5）气动系统
。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等
。电磁阀驱动
。气动仪表
 
（6）其他附件
。真空泵一台
。空压机一台
。管道


售后服务
保修期： 1年
是否可延长保修期： 否
现场技术咨询： 无
免费培训： 免费安装及技术培训
免费仪器保养： 6个月一次。
保内维修承诺： 经确认质量问题，免费更换。
报修承诺： 24小时内到达现场并开始维修
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其他半导体检测仪URE-2000/35A 的工作原理介绍

其他半导体检测仪URE-2000/35A 的使用方法?

URE-2000/35A 多少钱一台?

其他半导体检测仪URE-2000/35A 可以检测什么？

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其他半导体检测仪URE-2000/35A 报价含票含运吗？

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工商信息

企业名称

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司

信用代码

91440300789207446B

成立日期

2006-05-17

注册资本

1080万

经营范围

机械设备研发，工程和技术研究和试验发展，半导体器件专用设备销售，光学仪器销售，实验分析仪器销售，集成电路芯片及产品销售，电子专用材料销售。

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深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902

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公司地址： 深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902 联系人： 廖敬强 13538131258，徐翠兰15915408056 邮编： 518104 联系电话： 400-860-5168转4527

主营产品：

化学气相沉积设备 原子层沉积设备 无掩模光刻机/直写光刻机 电子束曝光机 有掩模光刻机 纳米压印设备 匀胶机

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