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英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE
概述：
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。
高性能工艺
准确的衬底温度控制
准确的工艺控制
成熟的300mm单晶圆失效分析工艺
选项
PlasmaPro 800 PECVD
旨在生产高质量的均匀介质薄膜。PECVD 中的应力控制是由可选的或者混合的高/低频等离子体源提供的, 使通过调整工艺得到具有张应力，压应力或者低应力的沉积薄膜成为可能。
PlasmaPro 800 RIE/PE：在同一设备上结合了RIE的各向异性和 PE模式刻蚀的高选择性。
PlasmaPro 800 RIE：成熟的干法刻蚀广泛应用于整个工业领域。
特征：
为化合物半导体、光电子和光子学应用提供了大的工艺灵活性，PlasmaPro 800 可提供：
大型下电极 - 低成本
刻蚀终点监测 - 可靠性和可维护性俱佳
通过激光干涉仪与/或发射光谱进行终点监测 - 增强刻蚀控制
可选择带有4-、8-或12-条气路的气柜 - 可提供灵活的工艺和工艺气体，可以与主机分离，放置在远端服务区
近距离耦合涡轮泵 - 提供优越的泵送速度加快气体的流动速度
数据记录 - 追溯腔室的历史状态以及工艺条件
液体冷却和/或电加热电极 - 出色的电极温度控制和稳定性
应用：
使用我们的具有特殊配置的失效分析设备进行干法刻蚀解剖工艺 —— 具有RIE和 PE两种模式
RIE／PE工艺涵盖了从封装好的芯片和裸芯片到整片300mm晶圆刻蚀
高质量的PECVD 沉积的SiNx和SiO2薄膜 ，适用于光子学、介电层钝化和诸多其它领域
SiO2，SiNx和石英刻蚀
金属和聚酰亚胺有机物刻蚀
用于高亮度LED生产的钝化沉积
III-V族刻蚀工艺
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PlasmaPro 800 RIE多少钱一台?
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其他半导体检测仪PlasmaPro 800 RIE使用的注意事项？
PlasmaPro 800 RIE的说明书有吗？
其他半导体检测仪PlasmaPro 800 RIE的操作规程有吗？
其他半导体检测仪PlasmaPro 800 RIE报价含票含运吗？
PlasmaPro 800 RIE有现货吗？
企业名称
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司
信用代码
91440300789207446B
成立日期
2006-05-17
注册资本
1080万
经营范围
机械设备研发，工程和技术研究和试验发展，半导体器件专用设备销售，光学仪器销售，实验分析仪器销售，集成电路芯片及产品销售，电子专用材料销售。
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
公司地址
深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902
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