美国NANOVEA HS1000型三维表面形貌仪

美国NANOVEA 三维表面形貌仪HS1000型

产品简介

 HS1000型三维表面形貌仪是一款高速的三维形貌仪，最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术，可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试，具有测量精度高，速度快，重复性好的优点，该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。
 

产品特性

采用白光共聚焦色差技术，可获得纳米级的分辨率
测量具有非破坏性，测量速度快，精确度高
测量范围广，可测透明、金属材料，半透明、高漫反射，低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…)；
尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
不受样品反射率的影响
不受环境光的影响
测量简单，样品无需特殊处理

Z方向,测量范围大：为27mm
 

主要技术参数

扫描范围：400mm×600mm(最大可选600mm*600mm)
扫描步长：5nm
扫描速度：1m/s
Z方向测量范围：27mm
方向测量分辨率：2nm
 

产品应用

MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料，光学元件、陶瓷和先进材料的研发

主要用于

--生产现场三维形貌测试的理想选择 

--高速三维表面形貌检测

美国NANOVEA HS1000型三维表面形貌仪

产品简介

 HS1000型三维表面形貌仪是一款高速的三维形貌仪，最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术，可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试，具有测量精度高，速度快，重复性好的优点，该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。
 

产品特性

采用白光共聚焦色差技术，可获得纳米级的分辨率
测量具有非破坏性，测量速度快，精确度高
测量范围广，可测透明、金属材料，半透明、高漫反射，低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…)；
尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
不受样品反射率的影响
不受环境光的影响
测量简单，样品无需特殊处理

Z方向,测量范围大：为27mm
 

主要技术参数

扫描范围：400mm×600mm(最大可选600mm*600mm)
扫描步长：5nm
扫描速度：1m/s
Z方向测量范围：27mm
方向测量分辨率：2nm
产品应用
MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料，光学元件、陶瓷和先进材料的研发

主要用于

--生产现场三维形貌测试的理想选择 

--高速三维表面形貌检测