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Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

品牌:
产地: 德国
型号: Sentech
报价: 面议
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产品介绍
产品详情

Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

 

高产量

等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合,用于到200 mm晶片的高产量工艺。

 

研发

三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

 

SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

 

用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。

 

        

 

  

高产量的多腔系统

ICP-RIE等离子刻蚀腔体可与两个片盒站组合用于200mm晶片的高产量并行工艺。

 

用于研发的多腔系统

ICP-RIE,RIE,PECVD和ICPECVD等腔体可与预真空室,片盒站等组合使用,以满足研发的特殊要求。


售后服务
保修期: 1年
是否可延长保修期:
现场技术咨询:
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次。
保内维修承诺: 经确认质量问题,免费更换。
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
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工商信息

企业名称

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

有限责任公司

信用代码

91440300789207446B

成立日期

2006-05-17

注册资本

1080万

经营范围

机械设备研发,工程和技术研究和试验发展,半导体器件专用设备销售,光学仪器销售,实验分析仪器销售,集成电路芯片及产品销售,电子专用材料销售。

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深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统,nullSentech 产地为德国,属于其他,除了Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多其他,蓝星宇客服电话400-860-5168转4527,售前、售后均可联系。
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