小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 |
![]() | 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。 |
产品特点 | |
Focus Lock自动对焦功能 Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。 ![]() | 光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。 ![]() |
标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。 ![]() | 别直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。 ![]() |
简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 ![]() | Clewin 掩模图形设计软件 ?可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等) ?可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 ?书写范围只由基片尺寸决定 ![]() |
产品参数 |
为了更好满足客户需求,同时节省客户采购成本,第三代Microwriter分为三个型号,基本型,增强型,旗舰型: ![]() ![]() |
应用案例 | |
直写分辨率1μm ![]() | |
直写分辨率0.6μm ![]() | |
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企业名称
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司
信用代码
91440300789207446B
成立日期
2006-05-17
注册资本
1080万
经营范围
机械设备研发,工程和技术研究和试验发展,半导体器件专用设备销售,光学仪器销售,实验分析仪器销售,集成电路芯片及产品销售,电子专用材料销售。
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
公司地址
深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902
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