? 产品简介:
NanoPVD-S10A-WA是英国MOORFIELD公司一款桌面式高性能科研级大尺寸磁控溅射系统,可配置DC磁控溅射靶与RF磁控溅射靶,用于沉积纳米级的金属及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜,该系统被国际上许多知名学术团队采用,是科研用户磁控溅射的理想选择。
? 产品特性:
• 紧凑型桌面结构,模块化设计
• 可选择DC与RF两种磁控溅射源,用于金属薄膜及绝缘材料,如氧化物与氮化物溅射
• 最大可支持8英寸样品
• 可安装2个2”磁控溅射靶,溅射靶角度连续可调,可独立/依次/共同溅射
• 可加3路反应气体,Ar,N2,O2有MFC控制
• 压力全自动控制,真空度低至 <5×10-7 mbar
• 配置Quartz crystal sensor用于薄膜厚度监测
• 操作简单:通过触屏或计算机实现全自动操作
• 自定义并可存储多个recipe
• 操作安全:自带各种软硬件互锁功能
• 可选加热样品台,最高温度500℃,精度+/-1℃
• 可选旋转样品台
• 售后维护简单
• 兼容超净间
? 设备主要组成:
1) 主机:
该系统兼容洁净间,主体由高质量钢支架组成,桌面高性能热蒸发系统,与真空泵组是隔离开的。
2) 安全系统:
仪器内部包含自动锁死装置:包含压力保护装置,舱门锁死装置,泵浦锁死装置可保证使用过程中不存在任何风险。软件可监控所有部件的运行状况,碰到安全问题,软件会自动切换到安全状态,同时软件会提示发生故障的部件。
3) 真空腔:真空腔位于仪器主机上方,样品从真空腔顶部装入或取出,方便进行操作,真空腔材料为SS304级无应力钢,顶部采用Viton O型圈密封。
4) 制冷装置:
管壁采用水冷管道进行水冷,可保证薄膜生长过程中系统及磁控溅射源处于较低温度,同时可保护密封圈。
5) 压力测量装置:采用真空规进行大范围真空度检测, 采用温度补偿电容压力传感器进行高分辨率压力测量。
6)真空泵:前级泵采用英国Edwards nXDS6i型干泵,次级泵是选项采用英国Edwards nEXT85i型水冷涡轮分子泵,软件可自动控制系统进行抽真空操作。
7)标准真空度:<5×10-7mbar
8)直流溅射靶:功率为1200W
9)射频溅射靶:13.56MHz,带匹配电路
10)样品台:样品台位于真空腔室顶部,可根据实际应用调整位置高度,最大可放置8”样品,可以配置旋转工作台实现样品连续回转,并可对样品进行加热,最高加热温度为500℃,精度+/-1℃。
11)工作气体:可配置3路气体,通常为Ar,N2与O2,用于氧化物与氮化物薄膜的镀膜,每一路气体都有一个单独的MFC进行控制,软件可以根据实验需求自动控制流量。
12)控制系统:控制系统采用工业级别的高稳定性的PLC控制系统,控制器预 留有USB与以太网接口用于获取数据及诊断故障。
13)液晶触摸屏:仪器上方自动一个7”触控屏,软件已经安装在触控屏上,操作时使用触控屏即可实现。
14)操作软件:通过该操作软件你可以启动每一个部件及查看每个部件的状态,
包含抽真空控制软件,压力控制软件,流量控制软件等,你也可以预设与保存多种recipe,还包含了系统故障诊断软件,安全控制软件模块等。
? 应用:
该系统用于半导体材料、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池实验研究。广泛应用于高校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。