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核心参数
清洗方法： 湿法清洗
产地类别： 进口
设备类型： 单晶圆清洗
晶圆尺寸： 535 x 535 mm
相关技术： 化学液清洗、PVA刷清洗、兆声清洗
尺寸： 1.23m*1.28m*2.042
适用制程、应用范围： 半导体工艺制程环节中清洗工艺
产能： /
n产品简介
CHEMIXX 760系统是一款大尺寸湿法系统，支持最大样品达535X535mm(21寸方片)，更大的样品尺寸可定制，一台系统可实现清洗、蚀刻 、显影 ，干燥整个工艺过程。
n产品特色
÷ 基板尺寸高达 535 x 535 mm/21 x 21 inch
÷ 手动装载半自动系统
÷ 两个用于化学液输送和机械清洗的电动输送臂
÷ 提供多种喷嘴，spray,puddle,喷雾，5孔碰头等
÷ 低接触或定制夹具
÷ 化学液具有加热功能，最高 60°C (85°C)
÷ 集成三种不同化学液供液系统，外部液体罐可选
÷ 手动灌装或通过批量灌装系统
÷ 工艺室外的手动去离子水枪
÷ 去离子水室冲洗
÷ 系统前端的紧急停止按钮
÷ 传感器控制的 3 路排水系统可通过配方进行编程。
÷ 带有三个光区的信号灯，用于系统状态的可视化
÷ 支持化学液清洗，兆声清洗，PVA刷洗，吹干等工艺
÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的一般设计
n技术数据
÷ 衬底尺寸: 最大可达 535 x 535 mm / 21 x 21 inch
÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步长 1 rpm
÷ 电机加速: 最大 2.000 rpm/s,步长 1 rpm/s
÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长为 0.1 秒
÷ 工艺腔室材料: PP （可选 PVDF)
Osiris湿法清洗设备CHEMIXX 760型的工作原理介绍
湿法清洗设备CHEMIXX 760型的使用方法?
OsirisCHEMIXX 760型多少钱一台?
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