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德国Osiris CHEMIXX 30pm型标准湿法处理系统
核心参数
产地类别： 进口
应用领域： 半导体芯片、MEMS系统等
产能： /
光刻胶用量： /
400-860-5168转3282
n产品简介
CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统，主要用于晶圆或者方片的清洗，刻蚀，显影等应用，其中清洗部分具有化学清洗，兆声清洗，PVA刷洗，高压DI水冲洗，背部清洗等多种功能。
n产品特色
÷ 圆形晶圆最大可达 ? 300mm
÷ 方形衬底最大可达 9 x 9 inch
÷ 最多两个电动输送臂，每个最多 6 个管路
÷ 液体加热模块高达 60°C
÷ 用于去离子水的背面冲洗
÷ 集成三种不同化学品液供应系统
÷ 工艺室外的手动去离子水枪
÷ 工艺室自动去离子水冲洗可选
÷ 带有流孔的工艺室档板
n技术数据
÷ 衬底尺寸: 最大可达 ? 300mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)
÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步进1 rpm
÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长 0.1 s
÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成
÷ 处理室材料: PP （可选 PVDF)
Osiris涂胶显影设备CHEMIXX 30pm的工作原理介绍
涂胶显影设备CHEMIXX 30pm的使用方法?
OsirisCHEMIXX 30pm多少钱一台?
涂胶显影设备CHEMIXX 30pm可以检测什么？
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微纳（香港）科技有限公司
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