nanoCVD-WPG型大尺寸石墨烯CVD系统

§  产品简介：

    nanoCVD-WPG型大尺寸石墨烯CVD系统是英国MOORFIELD公司与英国曼彻斯特大学“诺贝尔奖”石墨烯团队共同开发的一款专门大尺寸生长高质量石墨烯的纳米CVD系统，最大样品尺寸可达4寸，该系统采用国际领先的“冷壁技术”及“等离子软刻蚀技术”生长石墨烯，具有生长速度快，石墨烯质量高，耗量少，无污染的优点，是制备大尺寸高质量二维材料石墨烯用户的理想选择。

§  产品特性：

   • 采用全自动“冷壁”技术与独特的加热台设计实现高效加热和低反应材料消耗，运行费用低，石墨烯质量高。

   •压力：＜5×10-7mbar

   • 装样简单

   • 样片尺寸：3寸或4寸

   • 等离子体源：150W/13.56MHz RF源

   • 可在冷壁腔体中加等离子电极

  • 加热单元：低热载，高加热率，最高温度1100℃，分辨率为1℃，热电偶温度实时监测温度；，

  • 三路气体配带流量控制，标准为Ar，H2与CH4；

  • 内置压缩气体风扇高效冷却散热；

  • 生产时间短：一次完整生长流程时间小于30分钟；

  • 触摸式液晶触摸屏界面可自设和存储多达30个生长流程，生长条件精确控制，可重复生成制备石墨烯；

  • 联机数据采集，生长流程全自动控制；

  • 系统维护便捷方便，压力、气体流量和温度参数连锁确保使用安全。

§  生长体系：

  • 基底：Cu, Ni, etc. (films or foils)

  • 气体：H2, Ar, N2, etc.

  • 碳源原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.

§  应用：

  • Graphene & 2D materials

  • Electrodes for photovoltaics

  • Touchscreen displays

  • High-performance electronics

  • Biological, chemical and mechanical sensors

  • Electrical energy storage