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安捷伦科技(中国)有限公司
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解决方案
High fidelity legacy-to-modern method transfer on the 6475 triple quadrupole LC/MS platform for large output production labs
应用领域
电子/电气检测样品
生活及清洁家电检测项目
/Large output production labs often resist changes in physical hardware or software revision despite improved performance or enhanced features due to the time consuming nature of re-verification, re-validation, or reconstruction of the analytical method. Often, the method needs to be “rebuilt”, using the former method as a template – possibly leading to transcription errors or unexpected performance
differences.
共1台
利用 Agilent 1260 Infinity II HDR-DAD 助力 OLED 行业产品质量精准分析
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
化学性质由于 OLED 行业中对杂质限度的控制极为严格，而且产品中的主成分含量通常极高，而杂质含量极低，因此二者经常难以兼顾，提高了利用面积归一化法进行定量的难度。安捷伦高动态范围二极管阵列检测器 (HDR-DAD) 包含两个不同光程的检测器，对于含量极高的主成分采用低光程 (3.7 mm) 检测器，对于痕量杂质则采用高光程 (60 mm) 检测器。因此可通过一针进样实现主成分与痕量杂质的同时定量，完美解决了产品质量控制过程中遇到的难题
共1台
使用 Cary 7000 全能型分光光度计 (UMS) 测量光学材料不同入射角下的反射率 — 考察小型显示器的性能
应用领域
电子/电气检测样品
照明产品检测项目
物理性质Agilent Cary 7000 UMS 是测量光学显示器所使用新一代材料光学性质的有力工具。可以使用线性偏振入射光和检测前反射光去偏振方法，精确测量经过样品上特定聚合物镀膜后发生偏转的反射光。
共1台
利用超临界流体色谱与紫外检测定量分析 E7 液晶混合物中的化合物
应用领域
电子/电气检测样品
电子元器件产品检测项目
化合物成分本应用介绍了使用 Agilent 1260 Infinity 分析型 SFC 系统对液晶化合物混合物的分离。结果证明，在技术上极为重要的四种液晶化合物的混合物能够在很短的分析时间（2.25 分钟）内获得基线分离。本方法的分析速度比通常所用的传统 RP-HPLC 分离技术快大约 20 倍。保留时间 RSD 低于0.25%，校准曲线线性优于 0.99990。展示了对商业化 E7 液晶混合物的组成的定量测定结果。
共1台
利用 7700s/7900 ICP-MS 直接测量 20% 氢氧化铵中的金属杂质
应用领域
电子/电气检测样品
电子元器件产品检测项目
金属杂质使用 Agilent 7700s ICP-MS 成功对 20% NH4OH 进行了直接分析。ICP-MS 的高速频率匹配 RF 发生器在吸取 20% NH4OH 后能产生稳定的等离子体，同时多干扰去除技术确保被测的所有 48 种元素均实现较低的 DL 和 BEC。将加标浓度限制在 100 ppt 可避免碱性基质形成沉淀，也证实了 MSA 可用于常规的直接测量。因此，在用 ICP-MS分析 20% 高纯度的 NH4OH 时，实验室不必去除基质，可以直接进行常规分析。
共1台
利用 Agilent 7700s/7900 ICP-MS 对三氯硅烷进行痕量元素分析
应用领域
电子/电气检测样品
电子元器件产品检测项目
金属杂质三氯硅烷 (TCS) 是用于生产光伏材料 (PV) 硅的中间产物，为生产出太阳能电池制造所需的高纯度 PV 硅，TCS 中的金属杂质必须受到严格控制。我们开发了一种成功的分析方法，先经过安捷伦开发的样品前处理方法，然后采用 Agilent 7700s/7900 ICP-MS 测定 TCS 中的杂质。加标回收率测试证明该方法对包括硼和磷在内的 33 种元素的有效性，同时还分析了两种 TCS 样品。TCS 的分析能力可让 PV 硅制造商在制造 PV 硅之前检查 TCS 中间化学品中的金属杂质。
共1台
使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在MS/MS 模式下测定超纯半导体级硫酸中的痕量元素
应用领域
电子/电气检测样品
电子元器件产品检测项目
痕量元素使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS，成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中，20 ppt 水平（Si 为 2 ppb）下的所有元素均获得了优异的加标回收率，证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件，避免了质谱干扰问题的出现，这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。
共1台
使用 Agilent 8890 气相色谱系统和 Agilent 5977A GC/MSD 分析邻苯二甲酸酯
应用领域
电子/电气检测样品
电线电缆/低压电器检测项目
邻苯二甲酸酯Agilent 8890 气相色谱系统与配备 Extractor (Xtr) 离子源的 Agilent 5977A GC/MSD 联用来分析七种邻苯二甲酸酯的混合物。在分析的整个动态范围内获得的校准系数均高于 0.99，并且结果表明，各种邻苯二甲酸酯的最低检测限 (MDL) 均低于 0.01 mg/L。
为证明该分析系统作为筛查工具用于检测邻苯二甲酸酯的实用性，对三个实际样品中的邻苯二甲酸酯含量进行了分析。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Mg 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Mg 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Zr 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Zr 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 U 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
U 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Th 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Th 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Bi 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Bi 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Pb 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Pb 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Tl 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Tl 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Au 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Au 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Pt 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Pt 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Ir 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Ir 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Re 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Re 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 W 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
W 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Ta 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Ta 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Hf 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Hf 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Ba 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Ba 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Cs 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Cs 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Te 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Te 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Sb 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Sb 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Sn 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Sn 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Cd 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Cd 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Ag 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Ag 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Pd 元素
应用领域
电子/电气检测样品
其他检测项目
Pd 元素Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以准确、高效地测定不同浓度（30 ppm 和 2000 ppm）高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低，MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下，仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限，对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时，表明仪器具有出色的信号稳定性。
共1台
