看了有掩模光刻机的用户又看了
| QX模式 | FX模式 | |
|---|---|---|
| 写作表现 | ||
| 地址网格 [nm] | 4 | 10 |
| 线边缘粗糙度 [3σ， nm] | 20 | 40 |
| 位置精度 [3σ， nm] | 40 | 100 |
| 覆盖层 [3σ， nm] | 30 | 60 |
| 拼接 [3σ， nm] | 20 | 60 |
| 第 2 层对准 [最大误差 / nm] | 100 | 100 |
| CD均匀度 [3σ， nm] | 30 | 60 |
| 最小特征尺寸 [nm] | 500 | 700 |
| 写入速度 [mm²/min] | 325 | 580 |
| 6“ x 6” 的写入时间 [min] | 75 | 45 |
| 操作 | |
|---|---|
| 用户界面（软件） | 半兼容 GUI |
| 最大写入区域 | 228 x 228 mm² （可根据要求提供其他尺寸） |
| 基板尺寸 | 4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根据要求提供更大的和其他基材） |
| 系统特点 | |
| 光学 | 0.9 NA物镜 低失真紫外光学元件 自动校准程序 |
| 激光 | 355nm波长的高功率二极管泵浦固体激光器 |
| 对焦系统 | 实时光学自动对焦 |
| 对准 | 摄像系统 失真补偿 全局和逐场对准 边缘检测器 |
| 数据路径 | 实时压缩 可扩展的硬件概念 输入格式：所有标准格式，例如 GDSII 和 Jobdeck |
| 空间光调制器 | 频率 350 kHz 数据速率 2.4 GB/s |
| 自动化 | 全自动口罩处理，带两个最大 9 英寸的输送站;可选的 SECS/GEM 协议 |
| 系统尺寸 | 系统 / 电子机架 |
| 宽度 [mm] | 2995 / 800 |
| 深度 [mm] | 1652 / 650 |
| 高度 [mm] | 2102 / 1800 |
| 重量 [kg] | 3400 / 180 |
| 安装要求 | |
| 电气 | 400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相 |
| 压缩空气 | 7 - 10 bar （不含油或其他残留物） |
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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