厚度与阻氧性

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厚度与阻氧性相关的耗材

  • 等厚度薄膜制样工具
    specac_迷你等厚度薄膜制样套装等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理,所得到样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。视频:http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频
  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

厚度与阻氧性相关的仪器

  • 产品名称:晶圆厚度/电阻率测试仪品牌:E+H Metrology型号:MX604-ST关键词:电阻率,厚度 一、简介德国 E+H Metrology,简称E+H,成立于1968年,位于德国卡尔斯鲁厄。E+H专注于半导体行业、微电子、机械工程等领域表面量测设备定制化开发。厚度和电阻率测量仪组合,MX604-ST配置了同时测量厚度和电阻率的传感器,用于2“ 至 200mm 的晶圆电阻率和厚度测量。 二、技术规格晶圆尺寸:2" 至 8" (方形或近方形)厚度范围:60 - 300µ m 或 250 - 750µ m厚度精度:±1μm传感器直径:20 毫米有效区域直径:8 毫米距边缘的距离:10 毫米测量时间:0.3秒软件:EHMaster方块电阻:10-2000Ω/sq电阻率范围:0.25 – 50 Ohm&bull cm (thk.= 250μm)0.75 – 150 Ohm&bull cm (thk. = 750μm)三、应用用于硅片及SiC等晶圆的厚度和电阻率测量。
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  • EddyCus TF map 2525 薄膜电阻和薄膜厚度测试仪 方阻测试仪 薄膜电阻测试仪TF lab系列产品是一款适合实验室研发或成品检测使用的薄膜面电阻(方块电阻)及薄膜厚度测量的仪器。特点非接触成像高解析度成像(25 至1,000,000 点)缺陷成像封装层的地图参数薄膜电阻(欧姆/平方)金属层厚度(nm、μm)金属基板厚度(nm、μm)各向异性缺陷完整性评定应用建筑玻璃(LowE)触摸屏和平板显示器OLED和LED应用智能玻璃的应用透明防静电铝箔光伏半导体除冰和加热应用电池和燃料电池包装材料材料金属薄膜和栅格导电氧化物纳米线膜石墨烯、CNT(碳纳米管)、石墨打印薄膜导电聚合物(PEDOT:PSS)其他导电薄膜及材料规格参数测量技术:非接触式涡流传感器基板:例如:薄膜、玻璃、晶圆,等等最大扫描面积:10 inch / 254 x 254 mm(根据要求可以更大)边缘效应修正/排除:对于标准尺寸,排除2 mm的边缘最大样品厚度/传感器间隙:2 / 5 / 10 / 25 mm(由最厚的样本确定)薄膜电阻的范围:低 0.0001 - 10 Ohm / sq 2 至 8 % 精度标准 1 - 1,000 Ohm / sq 2 至 8 % 精度高 10 - 10,000 Ohm / sq 4 至 8 % 精度金属膜的厚度测量(例如:铝、铜):2 nm - 2 mm (与薄膜电阻一致)扫描间距:1 / 2 / 5 / 10 mm (根据要求的其它尺寸)每单位时间内测量点(二次形):5分钟内10,000个测量点30分钟内1,000,000 个测量点扫描时间:4 inch / 100 x 100 mm,在0.5至5分钟内(1-10mm 间距)8 inch / 200 x 200 mm,在1.5至15分钟内(1-10mm 间距)装置尺寸(宽/厚/深):549 x 236 x 786(836) mm / 23.6 x 9.05 x 31.5 inch重量: 27 kg可用特色:薄膜电阻成像各向异性电阻传感器
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  • 产品名称:晶圆厚度/非接触电阻率测试仪品牌:E+H Metrology型号:MX608系列关键词:电阻率、厚度、TTV 一、简介德国 E+H Metrology,简称E+H,成立于1968年,位于德国卡尔斯鲁厄。E+H专注于半导体行业、微电子、机械工程等领域表面量测设备定制化开发。MX608 设计用于表征硅晶圆、碳化硅等。它结合了非接触式厚度、电阻率和 P/N 传感器。 二、技术规格晶圆尺寸:4/5/6/8厚度范围:500-800 μm(300-600 μm可选)最大Warp :100 μm电阻率:0.001 – 200 Ohm&bull cm 厚度测量准确性:±0.3 μmTTV准确性:±0.1 μm精度:±0.05 μm 电阻率测量:精度 0.001 – 30 Ohm&bull cm ±1 % 30 - 100 Ohm&bull cm ± 2 % 100 - 200 Ohm&bull cm ± 5 % 测试时间:1 Point (center) 7 s1 Scan for 8” = 180 points 10 s18 Scans each 10° for 8” = 3240 points ca. 3 min三、应用可测硅片,SiC, GaN等各类导电衬底和绝缘衬底导电外延,厚度+TTV+电阻率 (Mapping)
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  • 【分享】磁性涂镀层厚度测量仪应用原理简介

    一、磁吸力原理测厚仪利用永久磁铁测头与导磁的钢材之间的吸力大小与处于这两者之间的距离成一定比例关系可测量覆层的厚度,这个距离就是覆层的厚度,所以只要覆层与基材的导磁率之差足够大,就可以进行测量。鉴于大多数工业品采用结构钢和热轧冷轧钢板冲压成形,所以磁性测厚仪应用最广。测量仪基本结构是磁钢,拉簧,标尺及自停机构。当磁钢与被测物吸合后,有一个弹簧在其后逐渐拉长,拉力逐渐增大,当拉力钢大于吸力磁钢脱离的一瞬间记录下拉力的大小即可获得覆层厚度。一般来讲,依不同的型号又不同的量程与适应场合。 在一个约350º角度内可用刻度表示0~100µm;0~1000µm;0~5mm等的覆层厚度,精度可达5%以上,能满足工业应用的一般要求。这种仪器的特点是操作简单、强固耐用、不用电源和测量前的校准,价格也较低,很适合车间作现场质量控制。 二、磁感应原理测厚仪磁感应原理是利用测头经过非铁磁覆层而流入铁基材的磁通大小来测定覆层厚度的,覆层愈厚,磁通愈小。由于是电子仪器,校准容易,可以实多种功能,扩大量程,提高精度,由于测试条件可降低许多,故比磁吸力式应用领域更广。当软铁芯上绕着线圈的测头放在被测物上后,仪器自动输出测试电流,磁通的大小影响到感应电动势的大小,仪器将该信号放大后来指示覆层厚度。早期的产品用表头指示,精度和重复性都不好,后来发展了数字显示式,电路设计也日趋完善。近年来引入微处理机技术及电子开关,稳频等最新技术,多种获专利的产品相继问世,精度有了很大的提高,达到1%,分辨率达到0.1µm,磁感应测厚仪的测头多采用软钢做导磁铁芯,线圈电流的频率不高,以降低涡流效应的影响,测头具有温度补偿功能。由于仪器已智能化,可以辨识不同的测头,配合不同的软件及自动改变测头电流和频率。 一台仪器能配合多种测头,也可以用同一台仪器。可以说,适用于工业生产及科学研究的仪器已达到了了非常实用化的阶段。利用电磁原理研制的测厚仪,原则上适用所有非导磁覆层测量,一般要求基本的磁导率达500以上。覆层材料如也是磁性的,则要求与基材的磁导率有足够大的差距(如钢上镀镍层)。磁性原理测厚仪可以应用在精确测量钢铁表面的油漆涂层,瓷、搪瓷防护层,塑料、橡胶覆层,包括镍铬在内的各种有色金属电镀层,化工石油行业的各种防腐涂层。对于感光胶片、电容器纸、塑料、聚酯等薄膜生产工业,利用测量平台或辊(钢铁制造)也可用来实现大面积上任一点的测量。

  • 用eds能谱测量氧化膜厚度

    铝表面自然生长的氧化膜通常小于10nm,如果经过退火处理,氧化膜会随温度升高而增厚,曾经有人用SEM-EDS 测量铝样品表面区的氧的相对含量(面积比),并利用ESCA 化学分析电子光谱测量氧化膜的厚度,最后得出氧化膜厚度和氧相对含量的关系式,这样就可以通过电镜能谱得到氧化膜的厚度。但以上方法对于电镜的试验条件变化比较敏感。又听说利用辉光光谱GDS或GDOES可以测量类似的氧化膜厚度,即通过测量氧的浓度分布来反映膜的厚度,我相信这是可行的,各位谁知道上海哪里有这样的仪器?又听说可以用XPS来测量膜厚,谁知道这方面的信息?

  • 铝氧化膜厚度的测量

    请问谁知道正常氧化条件下铝的氧化膜厚度的测量方法,估计在10nm以下。听说用辉光光谱可以测,上海哪里有这个仪器呢?另外ESCA 化学分析电子光谱也能测,谁知道具体信息。还有人说XPS也能测,谁知道?

厚度与阻氧性相关的资料

厚度与阻氧性相关的资讯

  • 高阻隔材料测试中厚度对渗透率的影响
    当天气变冷时,我们马上就知道多穿几层衣服会让我们更暖和。简单地说,如果你想要更多的保护,你就增加更多的厚度。同样的原理也适用于气体透过率测试。经验法则是,如果你将材料的厚度增加一倍,阻隔水平也会增加一倍,相应的透过率将减少一半。厚度对渗透率的影响有多大?很少有人去了解的是,较厚的样品渗透达到平衡所需的测试时间。典型的假设是,厚度加倍就需要测试时间加倍。这是不正确的。通常情况下,每次材料厚度增加一倍,渗透率达到平衡需要4倍的时间。下面是厚度1mil和5mil PET薄膜及其渗透率水平的比较。选择这些薄膜是因为它们在短时间内WVTR达到平衡。在此示例中,1mil PET薄膜的水蒸气透过率 (WVTR) 为10.1 g/(m2 x day)。达到该值95%所需的时间不到30分钟。5mil PET薄膜的WVTR为2.17 g/(m2 x day),需要近450分钟才能达到最终值的95%。我们通常看到,对于厚样品特别是在测量更高阻隔材料时,最后5%~10%的渗透率平衡可能需要相对较长的时间。通过测试得出结论当测试较厚材料的阻隔时,整体渗透率会成比例下降。材料厚度增加5倍,测得的WVTR从10.1 g/(m2 x day)下降至 2.17 g/(m2 x day)。 随着材料厚度的增加,需要更多的时间(超过5倍)来测试样品以达到平衡。如图所示,渗透率水平和达到平衡的时间都受到材料厚度的影响。当您优化测试条件(例如WVTR和CO2TR的流速)和测试持续时间以确保平衡值时,需要牢记这一点。适用于薄样品的标准测试设置可能会为厚样品产生不准确或过早的结果。
  • 研究首次制造出亚微米厚度的柔性压力传感器
    柔性压力传感器是得到关注最多的一类柔性传感器,在生物医学、脑机工程、智能制造等众多领域得到了应用。近日,大连理工大学研究员刘军山团队与李明教授等团队合作,独辟蹊径地提出了一种纳米工程策略,首次制造出了亚微米厚度(0.85μm)的柔性压力传感器。相关成果发表在Small上,并被选为封面文章。封面图片。大连理工大学供图柔性压力传感器通常由上下两层柔性电极层和中间的功能软材料层组成,外界压力会导致功能软材料层产生压缩变形,从而引起传感器输出信号的改变。而这种以功能软材料层压缩变形为主导的传感机理,要求电极层具有相对较大的抗弯刚度,电极层厚度一般要比功能软材料层大1~2个数量级。因此,现有的柔性压力传感器厚度只能在百微米甚至毫米量级,严重影响了传感器的轻质性、变形性和共形性。团队通过纳米工程策略,将柔性压力传感器的传感机理,由功能软材料层的压缩变形为主导,转变为柔性电极层的弯曲变形为主导,从根本上解除了对于传感器厚度的限制。并且,由于超薄的柔性电极层拥有极强的变形能力,使得传感器具有优异的检测性能。传感器的单位面积重量只有2.8 g/m2,相当于普通办公打印纸的1/29,能够承受曲率半径小至8.8μm的面外超大弯曲变形,并且能够与皮肤表面实现完全共性贴合。另外,传感器的灵敏度为92.11 kPa-1,检出限为0.8 Pa,均处于目前公开报道的最高水平。纳米工程策略可以成数量级地减小传感器的厚度,从而突破性提升传感器的轻质性、变形性和共形性,同时还能够使得传感器具有超高的检测性能,为柔性压力传感器的设计和制造提供了一种全新的思路。
  • 科学家发现北半球气溶胶光学厚度近20年呈下降趋势
    近日,中科院合肥物质院刘东研究员团队和安徽理工大学唐超礼教授利用近20年卫星数据合作开展气溶胶光学厚度(AOD550)时空分布研究,研究发现:北半球气溶胶光学厚度近20年的长期变化趋势是呈小幅下降趋势,这种下降趋势在中国东南部尤其明显,且全球气溶胶光学厚度以北纬17°为对称轴分布,更多成果发表在中科院二区TOP期刊《Atmospheric Environment》上。   大气气溶胶光学厚度(AOD,550纳米波段的气溶胶光学厚度为AOD550),是表征大气浑浊程度的关键的物理量。它是天气、气候和地球能量收支平衡研究中关注的重要参数,也是确定气溶胶气候效应的重要因素。通常高的AOD值预示着气溶胶纵向积累的增长,因此导致了大气能见度的降低。   我国科学家分析了国际地球观测系统(EOS)中的TERRA和Aqua卫星上的中分辨率成像光谱仪(MODIS)探测的近20年AOD550数据,系统地获取了全球气溶胶光学厚度的全球分布和时空变化特性。   研究发现:一、北半球气溶胶光学厚度近20年的长期变化趋势是呈小幅下降趋势,这种下降趋势在中国东南部尤其明显(图1)。课题组研究人员利用经验正交函数分析法EOF(Empirical Orthogonal Function)对陆地年平均全球气溶胶光学厚度分析时发现,第一模态(图2)显示近20年来中国东南部、亚马逊平原、美国东部以及欧洲-地中海-里海-非洲东北部区域的气溶胶光学厚度呈下降趋势。与之相反,亚洲北部、印度半岛、阿拉伯半岛南部和东部呈明显上升趋势。   二、在中、低纬度地区,气溶胶光学厚度的全球分布并不是关于赤道对称的,而是向北偏移约17°(图3)。全球气溶胶光学厚度在北纬17°达到最大值,然后向南北两极随纬度先显著减小、后逐渐变化平稳。   但在同一纬度地区,气溶胶光学厚度随经度的变化是不同的,在中纬度地区,气溶胶光学厚度在北半球随经度变化明显,而在南半球随经度变化平缓。在高纬度地区,南半球气溶胶光学厚度随纬度的升高而增大,北半球气溶胶光学厚度随纬度的升高而减小,并且南半球的气溶胶光学厚度随纬度变化比北半球快。   三、气溶胶光学厚度南北半球均呈现季节性变化规律(图4和图5):北半球气溶胶光学厚度显著高于南半球,且最大值都出现在各自半球的春季,最小值都出现在各自半球的秋季。   此外,海洋和陆地上的气溶胶光学厚度季节变化差异也很明显。EOF的月平均海洋气溶胶光学厚度分析结果显示,海洋气溶胶主要是由陆地气溶胶来源主导(图6)。特别值得注意的是,南半球水域上的气溶胶光学厚度的增加与全球气候变化导致的南半球深林火灾频发有密切正相关联系,其增长速率为0.0009/年(通过了95%的置信水平下的显著性检验)。   四、陆地来源的沙尘气溶胶峰值出现在七月,谷值出现在一月,陆地生物质燃烧气溶胶峰值出现在九月,谷值在四至五月。另外,陆地EOF分析捕捉到了一些极端气溶胶事件(图2),如2014/2015年强厄尔尼诺在太平洋赤道附近持续发展引起的东南亚极端生物质燃烧事件。   此研究利用卫星长期观测数据获得了全球气溶胶光学厚度全球经纬度分布规律和长期时空变化特性。目前科学家们正在利用数据对其时空分布变化进行更深入的分析,可以预见,气溶胶光学厚度的研究工作将为全球气候的长期变化规律分析、建立和验证全球高空大气模式等工作提供重要参考。   该成果论文第一作者是田晓敏博士,通讯作者是唐超礼教授,研究工作得到了国家高技术项目和空间天气学国家重点实验室开放课题基金支持。图1. 2003至2020年的年平均AOD550的空间分布图2. 陆地AOD550经验正交函数分析的前六个模式的空间分布图3. 18年(2003~2021)年平均的AOD550(蓝色点线)和其标准差(品红色线棒)随纬度(a)和经度(b)的变化曲线图4. 2004, 2006, 2008, 2010, 2012, 2014, 2016, 2018, 2020年的季节平均AOD550空间分布图5. 2003.03至2021.02的季节平均AOD550,全球(a)、南半球(b)、北半球(c)、全球海洋(d)、南半球海洋(e)、北半球海洋(f)、全球陆地(j)、南半球陆地(h)和北半球陆地(i),北半球春季(绿色)、北半球夏季(红色)、北半球秋季(黄色)和北半球冬季(黑色)图6. 海洋上月平均AOD550的经验正交函数分析的前六个模式的空间分布
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