截面结构

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截面结构相关的耗材

  • 双夹片45°/90°截面可观察截面钉形样品台
    【产品详情】此钉形样品台为45°/90°截面,双面各带一个夹片,样品台直径为25mm,45°及90°截面的夹片分别适用于固定不同样品或样品的不同截面,可同时放置两个样品,样品台直径为25mm。适用于Zeiss,FEI和Tescan等扫描电镜,材质为铝材质。【规格详情】样品台直径截面角度夹片数量25mm45°/90°2个产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 截面样品夹具
    主要用于金相制样的截面样品对缝粘接,当样品粘接后,需要给样品一定的压力进行固定,使粘合剂固化。同时需要在加热板上均匀加热。该产品是一款很专业的样品夹持工具,操作方便,夹持灵活。
  • 双夹片90°截面可观察截面钉形样品台直径25mm
    【产品详情】此钉形样品台为90°截面,两面各带一个夹片,总共两个夹片,样品台直径为25mm,夹片便于固定样品到样品台侧面,来观察样品截面,两个夹片可同时放置两个样品。适用于Zeiss,FEI和Tescan等扫描电镜,材质为铝材质。【规格详情】样品台直径截面角度夹片数量25mm90°2个产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。

截面结构相关的仪器

  • 氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher,简称CP),凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践,是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来,在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来,在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工,用其他方法难以制备的样品,软硬材质混合的复合材料,都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外,被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品,型号IB-19530CP,加工质量和方便性大大提高。
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  • 仪器简介: 界面流变测量模块(IRS)与 MCR 流变仪结合起来可以对界面膜(气体/液体之间或液体/液体之间)进行二维流变测量。在 IRS 中,界面中放置一个双锥测量转子,可对吸收或扩散膜(例如蛋白质或活性剂产生的界面膜)进行测量。IRS 结合 MCR流变仪的低扭矩功能和 TruStrainTM 功能,可以对最微弱的界面结构进行流变测量。温度范围由帕尔贴元件控制在 5 °C 至 70 °C 范围之内;MCR 流变仪空气轴承中内置专利的法向力传感器,可以精确确定界面位置。界面流变测量模块技术规格测量转子双锥转子,半径 34.14 mm,双锥面夹角 10° (2 x 5°)温度5 °C 至 70 °C控温附件P-PTD 200/80/I软件界面流场分析软件样品规格扩散界面膜样品在溶剂中溶解吸收界面膜样品在液态基体中溶解覆盖相空气或液体
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  • 氩离子截面抛光仪 400-860-5168转6134
    氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher,简称CP),凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践,是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来,在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来,在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工,用其他方法难以制备的样品,软硬材质混合的复合材料,都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外,被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品,型号IB-19530CP,加工质量和方便性大大提高。
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  • 硅片截面SEM测试样品处理

    硅片截面SEM测试样品处理

    [font=&]麻烦请问一下各位大神,现在是我在硅片上组装二氧化硅微球,上面镀一层膜,我想测这个核壳结构的壳厚度目前现在想着测硅片截面,有什么方法处理硅片,可以测得呢?[/font][font=&]之前想的是把做好的硅片切开看横截面,但是截面不平整,看到的截面上核壳结构数量很少,不连续。[/font][font=&][img=,690,279]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/02/202302202023129297_7143_5624619_3.jpg!w690x279.jpg[/img][/font]

  • [求助]求透射电镜 截面样品的制作

    本人 虽下载了 王凤莲 老师的 TEM样品制备技术 的 课件,有了一定收获,但觉得 课件讲的 还不够 详细。由于本人从未接触过电镜,故希望 能看到 更为 详细的 截面样品 制备的 说明。本人的样品是 蓝宝石上外延生长的GaN LED管芯,希望 拍个截面照片 以看到 各个外延层及多量子阱等 结构。

  • 【原创大赛】【微观看世界】光纤横截面和纵截面的扫描电镜观察

    【原创大赛】【微观看世界】光纤横截面和纵截面的扫描电镜观察

    光纤横截面和纵截面的扫描电镜观察光纤线路通常是纯玻璃的光学制品,可远距离传输数字信息,广泛应用于电话系统、有线电视系统或互联网宽带的数据传输。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091259_476101_1804341_3.jpg光纤的结构由纤芯、覆层和缓冲涂层等部分组成,其中纤芯是光纤的细玻璃中心,光在此传播,覆层是覆盖纤芯的外部光学材料,可将光反射到纤芯,缓冲涂层的作用是保护光纤免受损坏和潮湿。光纤有多种规格,本文实验中的多模光纤纤芯直径50微米左右,可用于传输来自发光二极管(LED)的红外线(波长=850到1300纳米)。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091259_476102_1804341_3.jpg http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091300_476103_1804341_3.gif本文中的光纤样品没有安装纤芯,纯玻璃材质,圆柱形中空结构,外径大约350微米,内径大约50微米。样品提供者想用扫描电镜观察玻璃光纤的中空位置,将样品制备成具有平整观察区域的横截面和纵截面。尝试用外力掰断玻璃光纤,截面凹凸不平边缘破损,无法有效观察。工欲善其事,必先利其器。实验室正好来了一台徕卡精研一体机TXP和一台徕卡TIC3x三离子束切割仪。徕卡精研一体机TXP是一款功能强大的小机床,具有定点切割、铣、研磨、抛光和为TEM取样等功能,但考虑到这个玻璃光纤样品在机械处理过程中会造成中空的孔内壁的细微机械损伤和外物污染,故选用徕卡TIC3x三离子束切割仪来完成该样品制备工作。首先,制备一个相对简单的玻璃光纤横截面。将光纤样品用锋利单面刀片切断,切断之后光纤断面在光学体视显微镜下看到是高低起伏很大的(可惜没将图像保存下来)。然后光纤将用导电碳胶和导电胶带粘到盖玻片(用切割好的单面抛光硅片也可)的边缘上,在体视镜下观察操作,确保光纤是垂直向上的,露出大概70微米的切割余量,选择离子枪加速电压7kV,电流3.2mA。使用钨灯丝扫描电镜实验低真空模式不喷金观察,获得的横截面图像如下。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091308_476104_1804341_3.jpg图片1 中空光纤样品横截面的低倍SEM图像http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091308_476105_1804341_3.jpg图片2 中空光纤样品横截面的边缘区域1200倍图像http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091309_476106_1804341_3.jpg图片3 中空光纤样品横截面的边缘区域2000倍图像http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091309_476107_1804341_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091309_476108_1804341_3.jpg图片5 中空光纤样品横截面的内壁2500倍图像http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091310_476109_1804341_3.jpg图片6 中空光纤样品横截面的内壁6000倍图像再制备一个玻璃光纤纵剖面样品。同样将光纤样品用锋利单面刀片切断,徕卡TIC3x截面切割方式的加工宽度通常不会超过5mm,截成长度大概8mm的小段即可。另外,采用离子切割仪的每次加工余量通常设定为50至100微米,而文中玻璃光纤的外径是350微米左右,如要准确切割至中孔的中心,需要切掉175微米左右,因此需要分两次加工,每次70至80微米。玻璃光纤纵剖面样品的制备两个难点,第一是将小段光纤用导电胶带和液体导电胶固定在切割平整的单面抛光单晶硅片的边缘上,需要确保光纤中孔中轴线与三离子枪的水平面平行,否则不能完整切割出纵剖面;第二是在第1次离子切割加工完之后,需要判断加工出的切割平面与光纤中孔中轴线的距离,准确预留出第2次离子切割加工的余量。好在徕卡TIC3x配置一个高品质的体视镜,并且在目镜中有显微标尺,样品载物台在X/Y/Z三个方向上的操作调节都比较方便,最终获得了不错的实验结果。选择离子枪加速电压6.5kV,电流3.0mA。下文的扫描电镜图片是用钨灯丝扫描电镜观察的,样品没喷金前用低真空拍摄背散射电子图像,喷金后拍摄了二次电子图像。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091310_476110_1804341_3.jpg图片7 中空光纤样品纵剖面的低倍宏观图像X90http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/11/201311091311_476111_1804341_3.jpg[/

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  • 网络讲座:二维材料界面结构与性质的原子力探针显微学研究(4)- 界面插层结构
    Interfacial Structures and Properties of 2D Materials with Atomic Force Microscopy(4)- Intercalated Structures讲座内容简介: 近年来,由于其潜在的巨大应用价值,关于二维层状材料的基础和应用研究方兴未艾,核心工作是理解和控制其多种多样的有趣性质。之前的研究工作主要集中在二维材料的面内结构,多种多样的层间相互作用在调控其力学、电学、热学以及光学等性质方面也有重要作用。虽然已有许多实验和理论研究工作来表征和理解这些界面结构,但对于界面行为是如何影响其物理与化学行为的仍然不是特别清楚。一个重要原因是,内部界面结构的直接微观成像和性质研究在实验技术上是相对比较困难的。石墨烯内部界面水分子插层的高分辨成像研究 在之前,报告人已经针对的AFM的基础知识、基本模式以及功能化AFM探测模式进行了介绍。本系列报告,将基于我们在原子力显微术的技术研究工作,利用多种先进原子力显微术针对二维材料的本征界面、异质界面以及材料/基底界面开展的研究工作。在每次报告中,我们首先将在较为详细地介绍主要使用的先进AFM模式的基本原理、技术实现及其相关应用。在此基础上,介绍我们利用该AFM模式所开展的关于二维材料界面结构与性质方面的研究工作。希望通过本系列报告有助于相关AFM使用者能够利用比较复杂的AFM功能模式开展研究工作。 本次报告是《二维材料界面结构与性质的原子力探针显微学研究》系列的第四次报告。在本次报告中,将介绍我们通过发展和利用多频原子力显微术,针对二维材料体系的内部界面插层结构等的高分辨成像表征和力学性质探测开展的一些工作。 #主讲人介绍 程志海,中国人民大学物理学系教授,博士生导师,基金委优青,中国仪器仪表学会显微仪器分会理事,中国硅酸盐学会微纳米分会理事。2007年,在中国科学院物理研究所纳米物理与器件实验室获凝聚态物理博士学位。2011年8月-2017年8月,国家纳米科学中心(中科院纳米标准与检测重点实验室),任副研究员/研究员。曾获中国科学院“引进杰出技术人才计划”(技术百人计划)和首届“卓越青年科学家”,卢嘉锡青年人才奖获得者,青年创新促进会会员并获首届“学科交叉与创新奖”等。目前,主要工作集中在先进原子力探针显微分析技术方法及其在低维材料与表界面物理等领域的应用基础研究。网络讲座时间:北京时间 2021年11月29日 上午10:00-上午11:00申请方法:请关注“Park原子力显微镜”公众号查看首页内容,即可参与。
  • 金属所在非共格界面的结构与物性研究方面取得进展
    功能材料界面由于经常表现出不同于体材料的新颖物理、化学现象与性质而备受关注。比如,人们在材料界面上发现了二维电子气、界面超导、界面发光和界面磁性等。这些有趣的界面现象与性质通常归因于界面上强烈的物理与化学交互作用,因此它们大多数出现在共格界面和半共格界面上。从共格界面到半共格界面、再到非共格界面,界面上的晶格失配不断增大,从而导致了材料界面上存在不同的晶格失配调节机制和界面结构。共格界面的晶格失配小,界面失配由两相邻晶格的弹性变形来调节,界面上形成了原子间完美匹配的界面结构;半共格界面的晶格失配适中,通过形成周期性排列的界面失配位错来补偿晶格失配。非共格界面的晶格失配非常大,界面两侧相邻晶体将保持各自原有的晶格而刚性堆叠在一起,不容易形成界面失配位错。虽然非共格界面比其他两类界面更常见,但由于它的晶格匹配度差并且界面键合强度弱,导致界面上的交互作用非常弱,因此非共格界面上很少表现出独特的界面现象与性质,这极大地限制了非共格界面的相关研究与应用。为了探索非共格界面上的新颖界面现象与物性,中国科学院金属研究所研究团队围绕非共格界面的原子与电子结构及界面交互作用开展了系统地研究工作,发现大晶格失配(~ 12 %)的AlN/Al2O3(0001)非共格界面上存在不寻常的强界面交互作用。强烈的界面交互作用显著调控了AlN/Al2O3界面的原子与电子结构及发光特性。透射电镜显微结构表征的研究结果表明,在AlN/Al2O3非共格界面上形成了界面失配位错网络和堆垛层错,这在其他非共格界面上是很少见的。原子层分辨的价电子能量损失谱表明,AlN/Al2O3非共格界面的带隙降低为~ 3.9 eV,显著小于AlN和Al2O3体材料的带隙(分别为5.4eV和8.0eV)。第一性原理计算表明,界面上带隙的减少主要由于在界面处形成了畸变的AlN3O四面体和AlN3O3八面体,从而导致了界面上存在Al-N键和Al-O键的竞争及键长的增大。阴极荧光光谱分析表明,该非共格界面具有界面发光特性,可发射波长为320 nm的紫外光,发光强度比AlN薄膜的本征发光高得多。该研究表明具有大晶格失配的非共格界面可表现出强烈的界面交互作用和独特的界面性质,深化和拓展了人们关于非共格界面的认识,可为开发基于非共格界面的先进异质结材料和器件提供借鉴与参考。相关研究工作得到国家杰出青年科学基金、中国科学院前沿研究重点项目和广东省基础与应用基础研究重大项目等的资助。相关研究成果以Interfacial interaction and intense interfacial ultraviolet light emission at an incoherent interface为题于5月15日在《自然-通讯》(Nature Communications)上在线发表。
  • 【赛纳斯】再发Nature!我司技术团队揭示界面水分子结构
    北京时间12月2日0时,Nature刊发厦门大学化学化工学院李剑锋教授课题组题为“In situ Raman spectroscopy reveals the structure and dissociation of interfacial water”(《原位拉曼光谱揭示界面水分子结构和其解离过程》)的研究论文。通过与北京大学深圳研究生院潘锋教授课题组合作,他们揭示了钯单晶电极界面水分子构型及其在析氢反应中的核心机制,为提升电催化反应速率提供了一种新的策略,解开了界面水分子结构如何调控电催化反应这一科研难题。水是我们赖以生存的生命源泉,也是科学发展各个领域的重要角色。在可再生能源科学领域,水分子更是直接参与到众多重要的电催化反应之中。可是,处于电极/溶液界面的水分子,作为反应过程的重要研究对象,数目远远低于体相水分子,而电极电势的实时变化又将极大影响真实的反应进程,必须在电场控制的条件下进行原位研究才能如实获得相关信息。因此,关于界面水分子在电催化反应过程中的结构变化与作用机制的研究变得困难重重。李剑锋课题组利用原位表面增强拉曼光谱技术,在电催化析氢反应过程中,对钯单晶电极/溶液界面水分子的构型及其动态变化过程进行实时监测。他们发现,除了已知的含有氢键的水分子,界面上还有一类与阳离子键合的水分子。正是在阳离子和电极电势协同作用下,无序的水分子排布成更为有序的特殊结构,这种结构可以加速电极与水分子间的电荷转移,进而极大提升电催化反应析氢的速率,为指导绿色制氢提供新的理论途径。厦门大学化学化工学院博士毕业生王耀辉(现为厦门大学博士后)和郑世胜(厦门大学能源学院本科毕业生,现北京大学深圳研究生院博士生)为该研究工作的共同第 一作者,李剑锋教授和北京大学深圳研究生院的潘锋教授为共同通讯作者。
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